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PRO Line PVD 200多功能濺射、電子束和熱蒸發(fā)沉積平臺(tái)PX 1950
PRO Line PVD 75多功能濺射、電子束和熱蒸發(fā)沉積平臺(tái)PX 1950
NEXUS物理氣相沉積PVDPX 1950
Fiji等離子增強(qiáng)原子層沉積PEALDPX 1950
NANO 36™熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
Savannah原子層沉積ALDPX 1950
Phoenix原子層沉積ALDPX 1950
GEN2000分子束外延MBEPX 1950
GEN200分子束外延MBEPX 1950
GEN20分子束外延MBEPX 1950
GENxcel R&D分子束外延MBEPX 1950
GEN10分子束外延MBEPX 1950
GENxplor R&DMBE分子束外延系統(tǒng)PX 1950
PLD450高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
PLD300高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
FJL560高真空磁控濺射與離子束復(fù)合薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
Epiluvac ER3-C1SiC分子外延系統(tǒng)PX 1950
TurboDisc EPIK 868金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積MOCVDPX 1950
Propel 300mm GaN金屬化學(xué)氣相沉積MOCVDPX 1950
Propel HVM GaN金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積PX 1950
Genesis ALD原子層沉積ALDPX 1950
Lumina AS/P金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積設(shè)備PX 1950
Beneq TFS 200/500原子層沉積ALDPX 1950
Beneq P1500原子層沉積ALDPX 1950
NEXUS IBD離子束沉積設(shè)備PX 1950
Beneq P800原子層沉積ALDPX 1950
Beneq P400A原子層沉積ALDPX 1950
NEXUS IBD-LDD離子束沉積設(shè)備PX 1950
MBE 8000分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
AD-230LP等離子體沉積ALDPX 1950
AT410/AT610/AT810熱原子層沉積PX 1674
SENTECH ALAL實(shí)時(shí)監(jiān)控器PX 1950
SENTECH SIPAR ICPICP沉積系統(tǒng)PX 1950
SENTECH Depolab 200開蓋等離子體沉積系統(tǒng)PECVDPX 1950
粉末原子層沉積系統(tǒng)ALDPX 1674
埃沃維克EvoVac 物理氣相沉積平臺(tái)PX 1950
EC400高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備PX 1950
Amod物理氣相沉積平臺(tái)PX 1950
ESC-101新型離子槍PX 1950
PlasmaPro 1000等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積PECVDPX 1950
薄膜生長(zhǎng)設(shè)備
工藝測(cè)量和檢測(cè)設(shè)備
集成電路測(cè)試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長(zhǎng)設(shè)備
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干法工藝設(shè)備
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組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
等離子Parylene派瑞林鍍膜集成系統(tǒng)
旋轉(zhuǎn)鼓式parylene派瑞林真空鍍膜設(shè)備
進(jìn)口parylene派瑞林鍍膜設(shè)備
派瑞林parylene真空鍍膜設(shè)備
派瑞林parylene鍍膜設(shè)備
Parylene派瑞林真空鍍膜機(jī)
Parylene派瑞林鍍膜機(jī)
Parylene派瑞林鍍膜設(shè)備
原子層沉積系統(tǒng)
真空等離子體涂覆薄膜沉積設(shè)備
日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子增加化學(xué)氣相沉積CVD系統(tǒng)
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賽默飛色譜及質(zhì)譜
上海平軒科學(xué)儀器有限公司
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