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北京華沛智同科技發(fā)展有限公司
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16 2025-6

第一臺 DL81/82 研磨拋光機(jī)完成安裝,助力產(chǎn)業(yè)升級

第一臺新設(shè)備DL81/82研磨拋光機(jī)完成安裝,助力產(chǎn)業(yè)升級近日第一臺新設(shè)備DL81/82研磨拋光機(jī)順利完成安裝,這一里程碑式的進(jìn)展標(biāo)志著我國在晶圓制造領(lǐng)域取得了重大突破。該設(shè)備由英國Logitech公...

21 2021-5

CMP銅Copper工藝的開發(fā)

擁有超過50年經(jīng)驗(yàn)的實(shí)驗(yàn)室團(tuán)隊(duì),與客戶合作不斷開發(fā)新的工藝,以確??梢允褂米钚潞拖冗M(jìn)的工藝技術(shù)來幫助客戶。無論是持續(xù)進(jìn)行研發(fā)以確保我們掌握新技術(shù)和工藝知識,還是繼續(xù)開發(fā)我們現(xiàn)有的產(chǎn)品,我們始終都在不斷...

11 2019-3

Semicon上海半導(dǎo)體展邀請函

我司將參加2019Semicon上海半導(dǎo)體展,我們誠邀您作為特邀嘉賓蒞臨參觀、洽談。展品展示:展會現(xiàn)場

17 2018-9

新品推介——LP70多工位精密研磨和拋光系統(tǒng)

Logitech將推出全新的LP70多工位精密研磨和拋光系統(tǒng)。該系統(tǒng)自動化程度高,具有創(chuàng)新的特性和功能,是需要高規(guī)格表面光潔度和平整度應(yīng)用的多晶圓加工方面的理想解決方案。LP70精密研磨和拋光系統(tǒng)將成...

3 2018-4

EMA新品問世-離子色譜樣品瓶

7 2018-3

EMA元素分析耗材產(chǎn)品介紹

北京華沛智同科技發(fā)展有限公司成立2004年,致力于將國外高品質(zhì)的元素分析耗材引進(jìn)到國內(nèi),并推薦給國內(nèi)同位素質(zhì)譜儀,C、N、O、S、H元素分析儀器使用單位,讓中國用戶使用到價(jià)廉物美,具有的元素分析耗材,...

25 2018-1

中山大學(xué)CMP Tribo和PM6設(shè)備安裝調(diào)試順利完成

中山大學(xué)電子與信息工程學(xué)院光電材料與技術(shù)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,為滿足專業(yè)人才培養(yǎng)需要,2016年底,利用國家專項(xiàng)教學(xué)資金購置光電國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室化學(xué)機(jī)械平坦化機(jī)和研磨拋光機(jī)各一套。設(shè)備均為目前精密研磨拋光設(shè)備...

23 2017-11

超過40年歷史的LP30 Logitech系統(tǒng)仍在運(yùn)轉(zhuǎn)

科羅拉多礦業(yè)學(xué)院一直從事地質(zhì)方面研究,他們的地質(zhì)薄片制備一直使用Logitech的LP30機(jī)器,此臺LP30機(jī)器已幫助他們制備地質(zhì)薄片超過40年。LP30是精密研磨拋光系統(tǒng)LP50的前身,在LP50面...

19 2016-8

上海硅酸鹽所研制的兩項(xiàng)關(guān)鍵材料成功用于 “墨子號”量子衛(wèi)星

8月16日1時(shí)40分,我國在酒泉衛(wèi)星發(fā)射中心用長征二號丁運(yùn)載火箭成功將世界首顆量子科學(xué)實(shí)驗(yàn)衛(wèi)星“墨子號”(簡稱“量子衛(wèi)星”)發(fā)射升空。此次發(fā)射任務(wù)的圓滿成功,標(biāo)志著我國空間科學(xué)研究又邁出重要一步。中國...

17 2016-8

新一代智能型精密研磨拋光系統(tǒng)PM6上市

英國logitech公司成立于1965年,具有*的材料表面精密加工處理領(lǐng)域的*水平。logitech公司一直致力于在半導(dǎo)體材料加工、光電器件制備、光學(xué)材料處理、地址薄片制備、材料的測試與測量及工藝探究...

28 2016-7

化學(xué)機(jī)械研磨拋光設(shè)備的優(yōu)勢有哪些?

化學(xué)機(jī)械研磨拋光設(shè)備了一場新的拋光技術(shù)革命,單純的化學(xué)拋光,拋光速率較快,表面光潔度高,損傷低,性好,但表面平整度和平行度差,拋光后表面一致性差;單純的機(jī)械拋光表面一致性好,表面平整度高,但表面光潔度...

18 2016-7

薄片制備系統(tǒng)的用途有哪些

由透射電鏡的工作原理可知,供透射電鏡分析的樣品必須對電子束是透明的,通常樣品觀察區(qū)域的厚度以控制在約100-200nm為宜。薄片制備系統(tǒng)所制得的樣品還必須具有代表性以真實(shí)反映所分析材料的某些特征,因此...

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