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參考價: | ¥ 13000 |
訂貨量: | 1件 |
- ED-3000 產(chǎn)品型號
- MIKASA/米卡薩 品牌
- 經(jīng)銷商 廠商性質(zhì)
- 成都市 所在地
訪問次數(shù):124更新時間:2025-05-27 16:55:32
- 聯(lián)系人:
- 李科霖
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MIKASA米卡薩 顯影和蝕刻設備 ED-3000
MIKASA米卡薩 顯影和蝕刻設備 ED-3000
顯影和蝕刻設備是半導體制造和微電子加工中的核心工藝裝備,主要用于圖形轉(zhuǎn)移和微納結(jié)構(gòu)加工。顯影設備通過化學溶液去除曝光后的光刻膠可溶部分,形成所需圖案;蝕刻設備則通過物理或化學方法去除未被光刻膠保護的基底材料,實現(xiàn)圖形轉(zhuǎn)移。
主要設備類型:
顯影設備:
噴淋式顯影機
浸漬式顯影機
超聲波輔助顯影機
蝕刻設備:
濕法蝕刻設備(化學溶液)
干法蝕刻設備(等離子體)
反應離子蝕刻(RIE)
深硅蝕刻(DRIE)
設備特點
高精度加工能力:
可實現(xiàn)納米級圖形轉(zhuǎn)移(<10nm)
各向異性蝕刻控制(側(cè)壁角度可調(diào))
高深寬比加工(最高可達50:1)
先進工藝控制:
精確的溫度控制系統(tǒng)(±0.1℃)
實時終點檢測技術(shù)
多參數(shù)閉環(huán)控制
材料兼容性廣:
硅、化合物半導體、金屬等多種材料
有機/無機介質(zhì)材料
新型二維材料
智能化系統(tǒng):
自動配方管理
故障自診斷
遠程監(jiān)控
環(huán)保設計:
廢氣處理系統(tǒng)
廢液回收裝置
低耗材設計
顯影和蝕刻設備作為微納制造的關(guān)鍵裝備,其技術(shù)水平直接決定了集成電路和微器件的性能與可靠性。隨著半導體技術(shù)節(jié)點的不斷推進和新興應用的涌現(xiàn),新一代設備正向著更高精度、更高效率、更智能環(huán)保的方向發(fā)展。未來,這些設備將繼續(xù)在推動信息技術(shù)進步、賦能新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展方面發(fā)揮不可替代的作用。
室 | 聚氯乙烯 | 轉(zhuǎn)速 | 0~3,000轉(zhuǎn)/分 |
基板尺寸 | φ1“ ~ φ12" (220×220mm) | 聯(lián) 鎖 | 真空吸附確認傳感器 加工腔蓋聯(lián)鎖 噴嘴移動超限 限制器 |
化學泵送 | 加壓罐壓力泵 | ||
化學品排放 | 噴霧排放 (擺動噴嘴型) | 權(quán)力 | AC200V 三相 15A |
尺寸 (mm) 當門打開時 | 720W×500H×520D 910H | ||
步數(shù) | 48 步 跳拷貝功能 | ||
程序模式 | 10 模式 | 重量 | 60 公斤 |
工藝(標準) | 蝕刻液:1 個系統(tǒng)(2 個噴嘴) 沖洗:1 個系統(tǒng)(2 個噴嘴) 反 沖洗:1 個 | 關(guān)鍵選項 | 化學溫度管理系統(tǒng) (加壓法) 各種基板支架 安裝工作臺 |