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一、概述 SHD6-BE涂膠顯影系統(tǒng)一體機(jī)主要由勻膠單元、烤膠單元、顯影單元等部分組成，該設(shè)備針對高校研究所實(shí)驗(yàn)室，特點(diǎn)是占地面積小，性價(jià)價(jià)比更高。整機(jī)采用框架...

全柜式涂膠顯影機(jī)該設(shè)備用于 8 寸晶圓的涂膠、顯影、烘烤工藝；設(shè)備包括主要的工藝模塊：涂膠模塊 COT,顯影模塊 DEV、熱 盤 HP 等（各腔體間有擋板隔開）...

全自動干法去膠機(jī)產(chǎn)品介紹：1設(shè)備名稱：全自動干法去膠機(jī)2設(shè)備型號：CGST31003設(shè)備原理：ICP4晶圓尺寸Wafer size: 8 inch（4或6 in...

桌上型半自動顯影機(jī)MSD-150D主要應(yīng)用于曝光后的顯影工藝。該設(shè)備主要由顯影腔單元、自動擺臂單元、 以及供液系統(tǒng)、主軸系統(tǒng)、控制系統(tǒng)及排液系統(tǒng)等組成，整機(jī)采用...

膜厚測量儀本設(shè)備利用反射干涉的原理進(jìn)行無損測量，測量吸收或者透明襯底上薄膜的厚度以及折射率，同時(shí)提供樣品反射率，測量精度達(dá)到埃級的分辨率，測量迅速，操作簡單，界...

本設(shè)備利用反射干涉的原理進(jìn)行無損測量，測量吸收或者透明襯底上薄膜的厚度以及折射率，同時(shí)提供樣品反射率，測量精度達(dá)到埃級的分辨率，測量迅速，操作簡單，界面友好，測...

UV 光清洗機(jī)擁有工業(yè)級別的清洗效率和效果，采用更簡易操作的抽屜式托盤設(shè)計(jì)，廣 泛應(yīng)用于光伏（鈣鈦礦電池），半導(dǎo)體芯片（晶圓）和光學(xué)元件及光通訊領(lǐng)域，適用于中小...

12寸烤膠機(jī)/加熱板HPR-12廣泛應(yīng)用于物理、材料冶金、高分子聚合物、生命科學(xué)等各個(gè)領(lǐng)域。在科研方面隨著近幾年半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅猛，針對旋轉(zhuǎn)涂膠后、曝光后的烘烤...

桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)將溶液涂覆在硅片、FTO、ITO、石英、陶瓷等基片上形成薄膜，主要應(yīng)用于鈣鈦礦電池和光刻膠涂敷成膜等領(lǐng)域。主要應(yīng)用于4、6寸樣品。該款可為客戶提...

HPP-8是針對半導(dǎo)體工藝生產(chǎn)中晶圓烘烤而設(shè)計(jì)的一款產(chǎn)品.采用新穎的數(shù)字式加觸摸屏面板，精準(zhǔn)的控制熱板表面溫度；堅(jiān)固耐腐蝕的鋁合金面板，表面陽極氧化處理，保障均...

鈣鈦礦旋涂儀應(yīng)用：在高速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同，也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有...

旋涂儀應(yīng)用：在高速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同，也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有關(guān)。應(yīng)...

應(yīng)用：在高速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同，也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有關(guān)。應(yīng)用：在...

真空等離子清洗機(jī)(Plasma cleaner),氣體通過激勵(lì)電源離化成等離子態(tài)，等離子體作用于產(chǎn)品 表面，清洗產(chǎn)品表面污染物，提高表面活性，增強(qiáng)附著性能。等離...

光刻工藝設(shè)備產(chǎn)品概述：應(yīng)用于3D封裝、LED、微機(jī)電系統(tǒng)、化合物半導(dǎo)體、功率器件等領(lǐng)域主要配置：自動對準(zhǔn)、自動曝光、LED光源、機(jī)器視覺對準(zhǔn)系統(tǒng)、高精度硅片承載...

全自動去膠機(jī)產(chǎn)品介紹：1設(shè)備名稱：全自動干法去膠機(jī)2設(shè)備型號：CGST31003設(shè)備原理：ICP4晶圓尺寸Wafer size: 8 inch（4或6 inch...

CG-MLC6系列直寫光刻機(jī)是一款精巧型光刻產(chǎn)品。該設(shè)備采用數(shù)字光刻技術(shù)，無需掩模 版，能夠直接將版圖信息轉(zhuǎn)移到涂有光刻膠的襯底上。CG-MLC6系列功能靈活、...

MSD-150D主要應(yīng)用于曝光后的顯影工藝。該設(shè)備主要由顯影腔單元、自動擺臂單元、 以及供液系統(tǒng)、主軸系統(tǒng)、控制系統(tǒng)及排液系統(tǒng)等組成，整機(jī)采用框架結(jié)構(gòu)，外表為鏡...

桌上型顯影機(jī)MSD-150D主要應(yīng)用于曝光后的顯影工藝。該設(shè)備主要由顯影腔單元、自動擺臂單元、 以及供液系統(tǒng)、主軸系統(tǒng)、控制系統(tǒng)及排液系統(tǒng)等組成，整機(jī)采用框架結(jié)...

自動滴膠勻膠機(jī)，MSC-200T-D桌上型半自動旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)用于對均勻性和一致性要求較高的表面涂布工藝，將光刻膠溶液自動涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰...