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賽默飛EscaLab Xi+ X射線光電子能譜儀分析性能：

●表面元素定性、定量分析

     能量分析器設計和雙晶微聚焦單色化X射線源結合，實現(xiàn)了能量分辨率

●快速高分辨平行成像

     化學成像: 空間分辨率優(yōu)于1um

     回溯成譜: 回溯區(qū)域優(yōu)于6um

●無需背底修正探測器

     電子倍增器和電阻陽極探測器的雙探測器設計，可實現(xiàn)高性能的XPS采譜和高空間分辨的XPS成  像的需求。

     空間連續(xù)的電阻陽極探測器創(chuàng)新技術，使得XPI成像分辨率達1um，同時所得數(shù)據(jù)無探測器背底特 征，無需背底校正，直接得到微米尺度分辨的定量元素分布成像結果。

●微聚焦單色源

     分析尺寸在20μm～900μm之間連續(xù)可調

     靈敏度和能量分辨率

     提供不少于20個靶材工作點，確保儀器終身使用過程中陽極靶無需更換

●自動化高效離子剖析源

     新型Ar離子團簇與傳統(tǒng)單粒子離子源相結合，用于各類材料的深度剖析研究

●高精確度角分辨XPS

     軟件控制分析位置和角度，確保數(shù)據(jù)的精確性和重復性

     全套的ARXPS數(shù)據(jù)處理工具，可對納米尺度的多層結構器件進行層厚計算

●一鍵式荷電補償

     配有雙束電荷中和系統(tǒng)，可以根據(jù)實際樣品的需要獨立控制開啟。

    適用于所有不導電樣品及粗糙表面的精準荷電中和

●強大的Avantage分析軟件

     全數(shù)字化儀器控制

     系統(tǒng)軟件可視化操作

     全套XPS標準數(shù)據(jù)圖庫以及化合物結構鑒定數(shù)據(jù)庫

     自定義數(shù)據(jù)采集到報告生成模式

賽默飛EscaLab Xi+ X射線光電子能譜儀操作簡便：

●高度自動化

     分析區(qū)域和角度分辨可選

     自動化氣體調節(jié)和真空控制

●隨時校準

     能量標尺和儀器功函數(shù)的校準

     離子槍定位和離子束聚焦

●鼠標點擊式樣品導航

     實時顯示分析位置

     高照明強度、強度可調

賽默飛EscaLab Xi+ X射線光電子能譜儀設計靈活

●ISS、ARXPS與REELS為標準配置

●多功能進樣室為標準配置

●UPS和EDS/AES/SEM/SAM/可選

●可選的樣品預處理附件，包括：

     樣品制備臺、晶體清潔器、樣品刮片器

     樣品加熱/冷卻裝置

     濺射清潔離子槍

     蒸發(fā)器

     高壓反應室