超高分辨電子束曝光成像系統(tǒng)

電子束曝光與高分辨成像的*結(jié)合

緊湊型高性價(jià)比的多功能電子束曝光系統(tǒng)

PIONEERTM 集成了電子束曝光及成像分析雙功能，是高校和科研人員的理想選擇。從理念上，PIONEER Two是一個(gè)全新的*的設(shè)備，真正意義上實(shí)現(xiàn)了電子束曝光和成像的*結(jié)合。

PIONEER Two將專(zhuān)業(yè)電子束曝光設(shè)備和電子成像系統(tǒng)所有的良好性能，融合成一套獨(dú)立的成套系統(tǒng)。多功能性、穩(wěn)定性、用戶友好性操作，使PIONEER Two系統(tǒng)適合于不僅追求納米結(jié)構(gòu)的制作及再觀察功能，且需要材料及生命科學(xué)領(lǐng)域中對(duì)化學(xué)成分及結(jié)構(gòu)進(jìn)行分析的所有用戶。

多功能電子束曝光機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn)：

1. 集成良好的熱場(chǎng)發(fā)射電子光學(xué)柱(TFE, Gemini電子光學(xué)柱) 技術(shù)，實(shí)現(xiàn)專(zhuān)業(yè)電子束曝光系統(tǒng)領(lǐng)域中世jie級(jí)的小束斑尺寸(1.6 nm)

2. 專(zhuān)業(yè)的電子束曝光系統(tǒng)中集成樣品架旋轉(zhuǎn)傾斜模塊的激光干涉控制樣品臺(tái)，保留了電子成像設(shè)備的所有功能，實(shí)現(xiàn)高精度的定位

3. 模塊化設(shè)計(jì)和高性價(jià)比，可滿足所有科研預(yù)算：可根據(jù)應(yīng)用的具體需求添加選件，以提高曝光速度、自動(dòng)化程度，及成像分析功能

4. 實(shí)現(xiàn)真正意義的多用戶管理功能：用戶登陸到自己的界面進(jìn)行圖形編輯、工藝流程控制、參數(shù)文件管理等操作，就像使用自己的電腦一樣簡(jiǎn)單方便

5. 各種可選擇的探測(cè)器(ET-SE, inlens SE, inlens EsB, AsB, EDX ...) ，以實(shí)現(xiàn)電子束曝光中的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記識(shí)別、成像及分析等多種功能

6. 小巧緊湊的系統(tǒng)架構(gòu)

遠(yuǎn)優(yōu)于SEM加圖形發(fā)生器的改造系統(tǒng)

PIONEER Two是從掃描電鏡加圖形發(fā)生器的改造系統(tǒng)到專(zhuān)業(yè)的電子束曝光系統(tǒng)之間的過(guò)度設(shè)備，相比于良好的帶有第三方圖形發(fā)生器及壓電工作臺(tái)的掃描電鏡，PIONEER Two是一款高性價(jià)比的成套的電子束曝光系統(tǒng)，其設(shè)備的集成、技術(shù)服務(wù)支持等都由一家值得信任的供應(yīng)商提供。

集成專(zhuān)業(yè)EBL系統(tǒng)*的高精度激光干涉控制樣品臺(tái)技術(shù)， PIONEER Two 可實(shí)現(xiàn)EBL系統(tǒng)所保證的曝光參數(shù)，遠(yuǎn)優(yōu)于SEM加圖形發(fā)生器的改造電子束曝光設(shè)備。

PIONEER Two 電子束曝光應(yīng)用

• 25nm間距的納米領(lǐng)結(jié)結(jié)構(gòu)陣列

• 20keV下在HSQ膠上曝光亞8nm線條

• 獨(dú)立的多終端石墨烯器件

• 可調(diào)InAs/InP單電子晶體管

• 自校準(zhǔn)浮動(dòng)?xùn)藕腿切瓮ǖ赖氖覝貑坞娮哟鎯?chǔ)器件

• 光學(xué)數(shù)模轉(zhuǎn)換器

• 微米齒輪泵

• 多對(duì)金開(kāi)口環(huán)共振器的手性超材料結(jié)構(gòu)

PIONEER Two SEM 應(yīng)用

• 采用標(biāo)配ET二次電子探測(cè)器在1.5kV下對(duì)Bi2-Ca2-Co化合物進(jìn)行成像

• 采用inlens二次電子探測(cè)器在1.5kV下對(duì)Bi2-Ca2-Co化合物進(jìn)行成像，得到材料的高對(duì)比度成像及表面特征

• 采用inlens背散射電子探測(cè)器在1.5kV下對(duì)Bi2-Ca2-Co化合物進(jìn)行成像，實(shí)現(xiàn)非凡的材料對(duì)比度成像，不同對(duì)比度代表不同的金屬元素

• 樣品臺(tái)傾斜時(shí)進(jìn)行高分辨成像

PIONEER Two 產(chǎn)品詳情