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SENTECH二維材料刻蝕PX 4067
ALD實時監(jiān)測儀RTMPX 4067
SENTECH原子層沉積設(shè)備PX 4067
BTF-1200C-S-PECVD微型PECVD系統(tǒng)管式爐PX 0
MFC-5ZCVD化學氣相沉積多通道質(zhì)量流量控制系統(tǒng)PX 3408
UHV ALD超高真空集成原子層沉積系統(tǒng)PX 0
Thermal-ALD E300S大尺寸原子層沉積系統(tǒng)PX 0
PA粉體包裹原子層沉積系統(tǒng)PX 0
Glove Box Integrated手套箱集成原子層沉積系統(tǒng)PX 0
PEALD E200SP等離子增強原子層沉積系統(tǒng)PX 0
Thermal-ALD E200S熱法原子層沉積系統(tǒng)PX 0
CVD化學氣相沉積系統(tǒng)PX 3408
原子層沉積PX 0
MEB-600/800熱阻/電子束蒸發(fā)鍍膜機設(shè)備PX 0
PECVD-601/801/1201化學氣相沉積(PECVD)PX 0
MSP-300/400/5100/6200磁控濺射鍍膜設(shè)備PX 0
PECVD-500A-D智能型PECVD系統(tǒng)(含壓力控制系統(tǒng))PX 0
scrubber全類型尾氣處理設(shè)備-scrubberPX 0
非標定制化學氣相沉積LPCVDPX 0
PlasmaPro 80 PECVDPX 0
PlasmaPro 800 PECVDPX 0
PlasmaPro 80 ICPCVDPX 0
PlasmaPro 100 PECVDPX 0
PlasmaPro 1000PX 0
PlasmaPro 100 ICPCVDPX 0
熱絲CVD PC-005熱絲CVD金剛石設(shè)備PX 0
PECVD設(shè)備 PC-006PECVD設(shè)備PX 0
LPCVD設(shè)備 PC-007LPCVD設(shè)備PX 0
MOCVD設(shè)備 PC-008MOCVD設(shè)備PX 0
FPCHE-CVD獨立式化學氣相沉積(CVD)系統(tǒng)PX 2894
NPE-3500 PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)PX 2970
HMPS-2060SP微波等離子化學氣相沉積系統(tǒng)MPCVD爐PX 0
GKD-CVD薄膜材料制備化學氣相沉積系統(tǒng) CVD爐PX 0
CVD氣相沉積系統(tǒng) 化學氣相 沉積爐PX 0
1200℃ CVD化學氣相沉積系統(tǒng)單晶制備管式爐PX 0
DH-30-700大華CVD化學氣相沉積碳鍍膜機PX 0
DH-30-700(大華)高溫化學氣相沉積碳鍍膜機PX 0
BTF-1200C-R-S-PECVD化學氣相沉積PX 0
WBMW-QXCJ4任氏巨源 微波化學氣相沉積爐PX 0
等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)設(shè)備PX 2133
薄膜生長設(shè)備
工藝測量和檢測設(shè)備
集成電路測試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導體行業(yè)儀器設(shè)備
等離子Parylene派瑞林鍍膜集成系統(tǒng)
旋轉(zhuǎn)鼓式parylene派瑞林真空鍍膜設(shè)備
進口parylene派瑞林鍍膜設(shè)備
派瑞林parylene真空鍍膜設(shè)備
派瑞林parylene鍍膜設(shè)備
Parylene派瑞林真空鍍膜機
Parylene派瑞林鍍膜機
Parylene派瑞林鍍膜設(shè)備
原子層沉積系統(tǒng)
真空等離子體涂覆薄膜沉積設(shè)備
日本ULVAC愛發(fā)科半導體化學氣相沉積設(shè)備
等離子增加化學氣相沉積CVD系統(tǒng)
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質(zhì)譜
上海平軒科學儀器有限公司
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