化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>光學(xué)儀器及設(shè)備>電子顯微鏡>掃描電鏡(SEM)>SU5000 二手日立熱場(chǎng)掃描電鏡,二手場(chǎng)發(fā)射電鏡
SU5000 二手日立熱場(chǎng)掃描電鏡,二手場(chǎng)發(fā)射電鏡
參考價(jià) | ¥ 1500000 |
訂貨量 | ≥1件 |
- 公司名稱 深圳市心怡創(chuàng)科技有限公司
- 品牌 Hitachi/日立
- 型號(hào) SU5000
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2025/6/30 13:51:09
- 訪問次數(shù) 35
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背散射電子圖像分辨率 | 3.0nm(加速電壓 15kv,低真空) | 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 |
---|---|---|---|
二次電子圖象分辨率 | 1.2 nm@ 30 kV(SE), 3.0 nm@1 kV(SE)nm | 加速電壓 | 0.5~30 kV(0.1 kV 步進(jìn))kV |
儀器種類 | 熱場(chǎng)發(fā)射 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 地礦,電子/電池,鋼鐵/金屬,航空航天,公安/司法 |
新到的一臺(tái)次新機(jī),22年出廠,23年安裝的
操作高效便捷
創(chuàng)新的“EM Wizard”界面更加直觀,僅需要“點(diǎn)擊”即可得到wan美的圖像。
超前的電腦輔助技術(shù)將電鏡的操作與控制提升到一個(gè)新水平。
特點(diǎn):
高性能電子光學(xué)系統(tǒng)
二次電子分辨率: 頂位二次電子探測(cè)器(2.0 nm at 1kV)*
高靈敏度: 高效PD-BSD, chao強(qiáng)的低加速電壓性能,低至100 V成像
大束流(>200 nA): 便于高效微區(qū)分析
性能優(yōu)異
壓力可變: 具有優(yōu)異的低真空(10 -300 Pa)成像性能,配備高靈敏度低真空探測(cè)器(UVD)*
開倉室快速簡(jiǎn)單換樣(zei大樣品尺寸: Φ 200 mm x 80 mmH)
微區(qū)分析: EDS, WDS, EBSD等等
*:選配附件
日立高新熱場(chǎng)式場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡SU5000
--搭載全新用戶界面,向所有用戶提供高畫質(zhì)圖像--
日立gao新技術(shù)公司(以下簡(jiǎn)稱:日立高新)8月4日開始發(fā)售的肖特基式場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡“SU5000“,搭載了全新的用戶界面和“EM Wizard“,無論用戶的操作技巧是否嫻熟都可以拍出好的照片。
掃描電子顯微鏡在納米技術(shù)領(lǐng)域、材料領(lǐng)域、醫(yī)學(xué)生物等領(lǐng)域均被廣泛使用。但隨著近年來儀器性能的大幅提升,以及用戶群體的不斷擴(kuò)大,使得用戶對(duì)不需要任何經(jīng)驗(yàn)和技術(shù)就能得到好照片的需求迅速擴(kuò)增。而且,由于觀察對(duì)象的樣品的不斷多樣化,對(duì)樣品的大小和性質(zhì)的無制約觀察變得尤為重要。
這次新開發(fā)的“SU5000“對(duì)用戶沒有任何操作技巧上的要求,通過”EM Wizard“只要選擇好觀察目的就可以得到好照片?!癊M Wizard“以人為本的設(shè)計(jì)理念使電鏡的操作性大幅上升,對(duì)于用戶來說,再也不用去討論該用什么條件進(jìn)行觀察,只要按照觀察目的選擇”表面細(xì)節(jié)觀察“或是”成分分布“等就可以自動(dòng)將適合的觀察條件設(shè)置好。除此之外,使用經(jīng)驗(yàn)豐富的操作人員也可以像往常一樣自由的選擇觀察條件,按照自己的操作習(xí)慣進(jìn)行設(shè)置?!盓M Wizard“對(duì)于初學(xué)者或者使用經(jīng)驗(yàn)尚淺的客戶來說,它du有的操作簡(jiǎn)易性和各種學(xué)習(xí)工具可以幫助您迅速成長(zhǎng)起來;對(duì)使用經(jīng)驗(yàn)豐富的客戶來說,開放了豐富的可設(shè)置選項(xiàng),會(huì)令您操作起來更加得心應(yīng)手。這正是“EM Wizard“的價(jià)值所在。
另外“SU5000“的尋找視野功能“3D MultiFinder“更是du一無二的。不但可大幅提高做樣速度,更使視野再現(xiàn)性得到大大提高。并且,為了能適應(yīng)各種分析的需求,zei大束流可達(dá)到200nA。再加上全新設(shè)計(jì)的背散射電子探頭和低真空二次電子探頭等,都使該款電鏡無論在是觀察樣品還是分析都具備了chao強(qiáng)的功能與強(qiáng)大的擴(kuò)展性。
日立高新在8月3日至8月7日在美國(guó)康涅狄格州舉辦的“Microscopy & Microanalysis“,9月3日至9月5日在日本千葉縣幕張國(guó)際展覽中心舉辦的“JASIS 2014“,9月7日至9月12日在捷克舉行的“18th International Microscopy Congress“上都做了實(shí)機(jī)展出。
*:肖特基式場(chǎng)發(fā)射電子顯微鏡:高亮度、大束流、穩(wěn)定性匯聚一身肖特基式場(chǎng)發(fā)射電子顯微鏡。分辨率高和可做各種定量定性分析。
日立高新熱場(chǎng)式場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡SU5000
--搭載全新用戶界面,向所有用戶提供高畫質(zhì)圖像--
日立公司(以下簡(jiǎn)稱:日立高新)8月4日開始發(fā)售的肖特基式場(chǎng)發(fā)射
掃描電子顯微鏡“SU5000“,搭載了全新的用戶界面和“EM Wizard“,無論用戶的操作技巧是否嫻熟都可以拍出好的照片。
掃描電子顯微鏡在納米技術(shù)領(lǐng)域、材料領(lǐng)域、醫(yī)學(xué)生物等領(lǐng)域均被廣泛使用。但隨著近年來儀器性能的大幅提升,以及用戶群體的不斷擴(kuò)大,使得用戶對(duì)不需要任何經(jīng)驗(yàn)和技術(shù)就能得到好照片的需求迅速擴(kuò)增。而且,由于觀察對(duì)象的樣品的不斷多樣化,對(duì)樣品的大小和性質(zhì)的無制約觀察變得尤為重要。
這次新開發(fā)的“SU5000“對(duì)用戶沒有任何操作技巧上的要求,通過”EM Wizard“只要選擇好觀察目的就可以得到好照片?!癊M Wizard“以人為本的設(shè)計(jì)理念使電鏡的操作性大幅上升,對(duì)于用戶來說,再也不用去討論該用什么條件進(jìn)行觀察,只要按照觀察目的選擇”表面細(xì)節(jié)觀察“或是”成分分布“等就可以自動(dòng)將適合的觀察條件設(shè)置好。除此之外,使用經(jīng)驗(yàn)豐富的操作人員也可以像往常一樣自由的選擇觀察條件,按照自己的操作習(xí)慣進(jìn)行設(shè)置?!盓M Wizard“對(duì)于初學(xué)者或者使用經(jīng)驗(yàn)尚淺的客戶來說,它的操作簡(jiǎn)易性和各種學(xué)習(xí)工具可以幫助您迅速成長(zhǎng)起來;對(duì)使用經(jīng)驗(yàn)豐富的客戶來說,開放了豐富的可設(shè)置選項(xiàng),會(huì)令您操作起來更加得心應(yīng)手。這正是“EM Wizard“的價(jià)值所在。
另外“SU5000“的尋找視野功能“3D MultiFinder“更是du一無二的。不但可大幅提高做樣速度,更使視野再現(xiàn)性得到大大提高。并且,為了能適應(yīng)各種分析的需求,zui大束流可達(dá)到200nA。再加上全新設(shè)計(jì)的背散射電子探頭和低真空二次電子探頭等,都使該款電鏡無論在是觀察樣品還是分析都具備了chao強(qiáng)的功能與強(qiáng)大的擴(kuò)展性。
日立高新在8月3日至8月7日在美國(guó)康涅狄格州舉辦的“Microscopy & Microanalysis“,9月3日至9月5日在日本千葉縣幕張國(guó)際展覽中心舉辦的“JASIS 2014“,9月7日至9月12日在捷克舉行的“18th International Microscopy Congress“上都做了實(shí)機(jī)展出。
*:肖特基式場(chǎng)發(fā)射電子顯微鏡:高亮度、大束流、穩(wěn)定性匯聚一身肖特基式場(chǎng)發(fā)射電子顯微鏡。分辨率高和可做各種定量定性分析。
項(xiàng)目 | 內(nèi)容 | |
---|---|---|
分辨率 | 1.2 nm @ 30 kV 3.0 nm @ 1 kV 2.0 nm @ 1 kV 減速模式*1 3.0 nm @ 15 kV 低真空模式*2 | |
放大倍率 | 10 - 600,000× (底片倍率), 18 - 1,000,000× (800 × 600 像素) 30 - 1,500,000× (1,280 × 960 像素) | |
電子光學(xué)系統(tǒng) | 電子槍 | ZrO /W 肖特基式電子槍 |
加速電壓 | 0.5 - 30 kV (0.1 kV 步進(jìn)) | |
著陸電壓 | 減速模式: 0.1 - 2.0 kV *1 | |
zei大束流 | > 200 nA | |
探測(cè)器 | 低位二次電子探測(cè)器 | |
低真空模式*2 | 真空范圍: 10 - 300 Pa | |
馬達(dá)臺(tái) | 馬達(dá)臺(tái)控制 | 5 - 軸自動(dòng) (優(yōu)中心) |
可動(dòng)范圍 | X:0~100mm Y:0~50mm Z:3~65mm T:-20~90° R:360° | |
zei大樣品尺寸 | zei大直徑: 200 mm zei大高度: 80 mm | |
選配探測(cè)器 |
|
*1:減速功能(包含高分辨率頂位二次電子探測(cè)器)
*2:低真空功能(包含5分割半導(dǎo)體探測(cè)器)
*3:空壓機(jī)(本地采購)
【主要參數(shù)】
電子槍 | ZrO/W 肖特基式場(chǎng)發(fā)射電子槍 |
加速電壓 | 0.5~30kV |
著陸電壓 | 0.1~2kV |
分辨率 | 2.0nm@1kV(*1)、1.2nm@30kV、3.0nm@15kV 低真空模式(*2) |
放大倍率 | 底片倍率:10~600000倍、顯示倍率:18~1000000倍 |
5軸馬達(dá)臺(tái) | X:0~100mm、Y:0~50mm、Z:3~65mm、T:-20~90°、R:360° |
*1:減速模式是選配項(xiàng) *2:低真空模式是選配項(xiàng)
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