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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實驗室常用設(shè)備>制樣/消解設(shè)備>電子束刻蝕系統(tǒng)>亞科 多功能電子束曝光系統(tǒng)PIONEER Two

亞科 多功能電子束曝光系統(tǒng)PIONEER Two

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 北京亞科晨旭科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 亞科
  • 產(chǎn)地 德國
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時間 2024/9/25 15:38:21
  • 訪問次數(shù) 1716

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公司自成立以來就一直專注于半導體、微組裝和電子裝配等領(lǐng)域的設(shè)備集成和技術(shù)服務(wù);目前公司擁有一支在半導體制造、微組裝及電子裝配等領(lǐng)域經(jīng)驗豐富的專業(yè)技術(shù)團隊,專業(yè)服務(wù)于混合電路、光電模塊、MEMS、先進封裝(TSV、Fan-out等)、化合物半導體、微波器件、功率器件、紅外探測、聲波器件、集成電路、分立器件、微納等領(lǐng)域。我們不僅能為客戶提供整套性能可靠的設(shè)備,還能根據(jù)客戶的實際生產(chǎn)需求制訂可行的工藝技術(shù)方案。
目前亞科電子已與眾多微電子封裝和半導體制造設(shè)備企業(yè)建立了良好的合作關(guān)系(如:BRUKER、EVG、TRYMAX、CAMTEK、CENTROTHERM、SENTECH、ENGIS、ADT、SONOSCAN、ASYMTEK、MARCH、PANASONIC、HYBOND、OKI、KEKO等),為向客戶提供先進的設(shè)備和專業(yè)的技術(shù)服務(wù)打下了堅實基礎(chǔ)。

 

半導體設(shè)備,微組裝設(shè)備,LTCC設(shè)備,化工檢測設(shè)備

產(chǎn)地類別 進口 價格區(qū)間 150萬-200萬
應用領(lǐng)域 電子/電池

RAITH多功能電子束曝光系統(tǒng)PIONEER Two

 

多功能電子束曝光機

 

 

電子束曝光和成像的完美結(jié)合

超高分辨電子束曝光成像系統(tǒng)

電子束曝光與高分辨成像的完美結(jié)合

緊湊型高性價比的多功能電子束曝光系統(tǒng)

PIONEERTM 集成了電子束曝光及成像分析雙功能,是高校和科研人員的理想選擇。從理念上,PIONEER Two是一個全新的*的設(shè)備,真正意義上實現(xiàn)了電子束曝光和成像的完美結(jié)合。

PIONEER Two將專業(yè)電子束曝光設(shè)備和電子成像系統(tǒng)所有的先進性能,融合成一套獨立的成套系統(tǒng)。多功能性、穩(wěn)定性、用戶友好性操作,使PIONEER Two系統(tǒng)適合于不僅追求納米結(jié)構(gòu)的制作及再觀察功能,且需要材料及生命科學領(lǐng)域中對化學成分及結(jié)構(gòu)進行分析的所有用戶。

電子束曝光及成像

  • 集成先進的熱場發(fā)射電子光學柱(TFE, Gemini電子光學柱) 技術(shù),實現(xiàn)專業(yè)電子束曝光系統(tǒng)領(lǐng)域中的小束斑尺寸(1.6 nm)
  • 專業(yè)的電子束曝光系統(tǒng)中集成樣品架旋轉(zhuǎn)傾斜模塊的激光干涉控制樣品臺,保留了電子成像設(shè)備的所有功能,實現(xiàn)高精度的定位
  • 模塊化設(shè)計和高性價比,可滿足所有科研預算:可根據(jù)應用的具體需求添加選件,以提高曝光速度、自動化程度,及成像分析功能
  • 實現(xiàn)真正意義的多用戶管理功能:用戶登陸到自己的界面進行圖形編輯、工藝流程控制、參數(shù)文件管理等操作,就像使用自己的電腦一樣簡單方便
  • 各種可選擇的探測器(ET-SE, inlens SE, inlens EsB, AsB, EDX ...) ,以實現(xiàn)電子束曝光中的對準標記識別、成像及分析等多種功能
  • 小巧緊湊的系統(tǒng)架構(gòu)

遠優(yōu)于SEM加圖形發(fā)生器的改造系統(tǒng)

PIONEER Two是從掃描電鏡加圖形發(fā)生器的改造系統(tǒng)到專業(yè)的電子束曝光系統(tǒng)之間的過度設(shè)備,相比于先進的帶有第三方圖形發(fā)生器及壓電工作臺的掃描電鏡,PIONEER Two是一款高性價比的成套的電子束曝光系統(tǒng),其設(shè)備的集成、技術(shù)服務(wù)支持等都由一家值得信任的供應商提供。

集成專業(yè)EBL系統(tǒng)*的高精度激光干涉控制樣品臺技術(shù), PIONEER Two 可實現(xiàn)EBL系統(tǒng)所保證的曝光參數(shù),遠優(yōu)于SEM加圖形發(fā)生器的改造電子束曝光設(shè)備。

 

PIONEER Two 電子束曝光應用

  • 25nm間距的納米領(lǐng)結(jié)結(jié)構(gòu)陣列

 

  • 20keV下在HSQ膠上曝光亞8nm線條

 

  • 獨立的多終端石墨烯器件
  • 可調(diào)InAs/InP單電子晶體管

 

  • 自校準浮動柵和三角形通道的室溫單電子存儲器件

 

  • 光學數(shù)模轉(zhuǎn)換器
  • 微米齒輪泵

 

 

  • 多對金開口環(huán)共振器的手性超材料結(jié)構(gòu)

PIONEER Two SEM 應用

  • 采用標配ET二次電子探測器在1.5kV下對Bi2-Ca2-Co化合物進行成像

 

  • 采用inlens二次電子探測器在1.5kV下對Bi2-Ca2-Co化合物進行成像,得到材料的高對比度成像及表面特征

 

  • 采用inlens背散射電子探測器在1.5kV下對Bi2-Ca2-Co化合物進行成像,實現(xiàn)非凡的材料對比度成像,不同對比度代表不同的金屬元素
  • 樣品臺傾斜時進行高分辨成像

PIONEER Two 產(chǎn)品詳情

主要應用:

  • 納米級光刻
  • 高分辨成像
  • 材料和結(jié)構(gòu)分析

 

電子槍技術(shù):

  • Gemini
  • 電子
  • 30 kV
  • Inlense二次電子探測器
  • 能量選擇背散射探測器(選配)

 

 



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