通常情況下，蝕刻液由硫酸和過氧化氫配制而成。任何金屬雜質(zhì)的引入都將會(huì)對(duì)IC器件的可靠性產(chǎn)生不利影響，因此需要使用的硫酸具有高純度和高質(zhì)量。由于具有快速測(cè)定各種工藝化學(xué)品中超痕量濃度待測(cè)元素的能力，電感耦合等離子體質(zhì)譜儀已成為了質(zhì)量控制*的分析工具。然而，在傳統(tǒng)的等離子體條件下，往往存在氬離子與基質(zhì)成分結(jié)合產(chǎn)生多原子干擾的情況。
本應(yīng)用報(bào)告使用了NexION 300 ICP-MS去除干擾，從而在使用高溫等離子體的條件下通過一次分析就能夠?qū)2SO4中全部痕量水平的雜質(zhì)元素進(jìn)行測(cè)定的能力。
提供商 |
珀金埃爾默企業(yè)管理（上海）有限公司 | 下載次數(shù) |
206次 |
資料大小 |
909.7KB | 資料類型 |
PDF 文件 |
資料圖片 |
-- | 瀏覽次數(shù) |
402次 |
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
會(huì)員.png)
17
立即詢價(jià)
您提交后，專屬客服將第一時(shí)間為您服務(wù)