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2022
07-292022
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07-27cmp研磨液廠家使用低場核磁技術研究CMP拋光液的原位分散性
cmp研磨液廠家使用低場核磁技術研究CMP拋光液的原位分散性CMP全稱為ChemicalMechanicalPolishing,即化學機械拋光。該技術是半導體晶圓制造的比備流程之一,對高精度、高性能晶...2022
07-272022
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07-252022
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07-222022
07-222022
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07-202022
07-202022
07-202022
07-18結(jié)合產(chǎn)品功能及特點了解核磁共振成像分析儀
核磁共振成像分析儀集弛豫分析和磁共振成像于一體,探頭內(nèi)徑達40mm,以滿足不同大小樣品的測試需求,目前已廣泛應用于食品研究。NMI20系列核磁共振設備采用稀土永磁體制造,無后續(xù)維護費用;測試時無需化學...2022
07-182022
07-182022
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