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日本nisshooptical微米深度高度測(cè)量裝置 AFM-30 特點(diǎn)介紹

這是一種新型深度和高度測(cè)量裝置，結(jié)合了使用光切割的狹縫圖像觀察和使用聚光圖像的AF（自動(dòng)對(duì)焦）跟蹤。

連續(xù)跟蹤自動(dòng)對(duì)焦驅(qū)動(dòng)可實(shí)現(xiàn)快速、易于使用的測(cè)量，并具有高重復(fù)性。

由于該方法在觀察狹縫圖像投影的臺(tái)階形狀的同時(shí)進(jìn)行測(cè)量，因此可以實(shí)時(shí)識(shí)別測(cè)量屏幕上的高度，從而輕松確定需要測(cè)量的區(qū)域。

這是一種狹縫圖像、點(diǎn)光圖像和電子線參考線的中心在測(cè)量點(diǎn)處都重合的測(cè)量系統(tǒng)，通過檢查錯(cuò)位，可以防止測(cè)量值錯(cuò)誤。

光切割仰角可根據(jù)應(yīng)用場(chǎng)合從標(biāo)準(zhǔn)90°至30°、60°、120°中選擇。

日本nisshooptical微米深度高度測(cè)量裝置 AFM-30 規(guī)格參數(shù)

■ 觀察方法

光學(xué)切割法（利用狹縫光學(xué)系統(tǒng)測(cè)量深度和高度）

■ 物鏡

固定放大倍率：10倍（也可提供5倍和20倍）

■ Z軸驅(qū)動(dòng)方式

使用聚光燈的 AF 連續(xù)跟蹤方法（可離線手動(dòng)測(cè)量）

■ 投影狹縫

10μm半反射鏡型

■ Z軸測(cè)量

Z軸數(shù)字線性規(guī)0.1μm讀數(shù)

■ 重復(fù)性

±1μm以內(nèi)

■ 使用的光源

半導(dǎo)體激光器（2級(jí)）、鹵素光源

清晰顯示深度、高度和水平差的光學(xué)切割方法...自動(dòng)捕捉代表橫截面形狀的細(xì)縫光、紅色激光點(diǎn)和水平差的變化，Z軸功能快速跟隨，并以數(shù)字方式記錄測(cè)量值。這是一種新型深度/高度測(cè)量裝置，結(jié)合了顯示功能（自動(dòng)對(duì)焦系統(tǒng)）和電子線法參考線，擴(kuò)大了測(cè)量范圍，增加了其實(shí)用價(jià)值。