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VAT 65.3控壓真空擺閥
VAT 65.3控壓真空擺閥設定了下游壓力控制和隔離的新標準。該系列控壓擺閥專為半導體和顯示器生產系統(tǒng)而設計，可在較寬的流導范圍內提供精確的可控性。65.3 控壓擺閥配備帶有集成位置控制的電機，可提供改進功能。
驅動器控制器具有更高的 32 位數據處理能力，可提供全新可控性。這意味著可以非常快速、精細和準確地控制鐘擺閥板的各個位置，從而在極短的響應時間內實現非常精確的下游壓力控制。閥門的預設運動序列可根據各種不斷變化的工藝參數，對速度和路線進行調整。65.3 控壓擺閥還可防止粒子釋放。閥板經過優(yōu)化的阻尼關閉運動可避免傳統(tǒng)閥門常見的沖擊和振動。65.3 控壓擺閥的閉合順暢無礙，幾乎察覺不到關閉和打開。閥板提供非常精確的機械引導，可確保往復運動中的無接觸氣流控制，并在密封運動的所有區(qū)域內實現均勻的密封。
65.3 控壓擺閥已經安裝在數百個各種工藝條件下的要求苛刻的應用中，證明了其穩(wěn)定的可靠性和性能。65.3控壓擺閥還是改造現有系統(tǒng)的理想之選。
65.3 控壓擺閥的尺寸為 DN 100-350 mm (4" - 14")，采用鋁或硬質陽極氧化鋁制成，帶有 ISO-F 和 JIS 標準法蘭連接?？杉啥ㄖ品ㄌm，也可作為直接安裝選項。標準密封材料為氟橡膠，并且可根據要求使用其他材料。
控制器可采用特殊控制算法（自適應、固定 PID、上游、軟抽）?？刂破魃系母鞣N標準端 口可通過個人計算機或連接到過程控制單 元 (PCU) 輕松訪問。專用的控制性能分析儀 (CPA) 軟件可輕松校準 65.3 控壓擺閥并簡化維護計劃。
65.3控壓真空擺閥主要特點及優(yōu)勢：
特點:
快速精確的壓力控制
無沖擊操作：無粒子生成
提高工藝穩(wěn)定性：可控制所有流量和壓力
帶有控制性能分析儀 (CPA) 的 32 位集成壓力調節(jié)器 (IC2)
“即插即用"改造：無需校準或匹配
優(yōu)勢:
· 穩(wěn)定的可靠性、精度和速度
· 維護周期延長
· 運行成本低
65.3 控壓擺閥應用：
顯示干式蝕刻
通常情況下，干式蝕刻通過離子轟擊（通常是活性氣體的等離子體）來移除和蝕刻半導體材料的遮蔽圖案，從而將材料從暴露的表面移開。這個過程可能導致冷凝和高度的副作用，這可能影響真空閥的功能和可靠性。
過程控制和隔離
真空和氣體流的高精度控制和隔離在半導體制造中是至關重要的。在上游和下游過程中，所有的閥門功能必須保證在大量的循環(huán)中具有精確的重復性。其結果是：在規(guī)定的時間間隔內精確的體積流量和一致的、可靠的密封。VAT控制和隔離閥在此設定了標準。
OLED噴墨打印
在OLED的噴墨印刷中，所需的有機材料在常規(guī)的大氣條件下點滴在大型玻璃基材上的。精確的控制和隔離條件對于實現預期的生產質量和效率至關重要。VAT真空閥解決方案在這一領域設立了標準。
65.3 控壓擺閥技術數據
尺寸 | DN 100 (4"), DN 160 (6"), DN 200 (8"), | |
驅動器 | 帶集成壓力控制器的步進電機 | |
閥體材料 | 鋁：鋁或硬質陽極氧化鋁 | |
饋通件 | 驅動器 密封圈 | 旋轉饋通件 軸饋通件 |
標準法蘭 | ISO-F, JIS | |
泄漏率閥體 | 鋁 硬質陽極氧化鋁 | < 1 × 10-9 mbar ls-1 |
泄漏率閥座 | 鋁 硬質陽極氧化鋁 | < 1 × 10-9 mbar ls-1 |
壓力范圍 | 鋁 硬質陽極氧化鋁 | 1 × 10-8 mbar to 1.2 bar (絕對壓強) |
第一次維護前開關次數 | 壓力控制 關閉/打開 | 100 萬次 20 萬次 |
溫度 | 閥體 | ≤ 120 °C |
控制器 | 最大 50℃（建議 ≤35℃） | |
材料 | 閥體、閥板 | EN AW-6061 (3.3211) |
密封圈 | EN AW-6061 (3.3211), AISI 305 (1.4303), | |
其他部件 | AISI 316L (1.4404, 1.4435), AISI 440 (1.4122), | |
密封 | 閥蓋、閥板、 閥體饋通件 | 氟橡膠（含氟彈性體） |
安裝位置 | 任何位置 |
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