精準(zhǔn)分析光刻膠光學(xué)性能，安捷倫Cary系列光譜儀大顯身手

時間：2024-10-17 閱讀：363

光刻是半導(dǎo)體制程中的關(guān)鍵步驟，隨著微電子制造技術(shù)的發(fā)展，對光刻的精密度、復(fù)雜度的要求逐漸增高。在這一過程中，光刻膠作為光刻技術(shù)不可或缺的組成部分，其性能對光刻的最終效果起著至關(guān)重要的作用。光刻膠也叫光致抗蝕劑，是一種光敏材料，在特定波長光源的照射下會發(fā)生化學(xué)變化，如聚合或分解，可以將掩模版上的圖案轉(zhuǎn)印到晶圓表面。根據(jù)所使用的曝光波長的不同，半導(dǎo)體光刻膠可分為紫外寬光譜（300 - 450 nm）、G 線（436 nm）、I 線（365 nm）、KrF（248 nm）、ArF（193 nm）、EUV（13.5 nm）幾種類型。

表 1. 光刻膠種類（按曝光波長分類）

光刻膠通常由光敏劑、樹脂、聚合物單體、溶劑和其他助劑組成。其中，光產(chǎn)酸劑是各類化學(xué)增幅抗蝕劑的關(guān)鍵組分之一，可以增強抗蝕劑膜層的光照部分與非光照部分的溶解度差異反差，從而實現(xiàn)清晰的顯影成像。研究發(fā)現(xiàn)，產(chǎn)酸源透明度的改善是提高 193 nm 光刻膠性質(zhì)的關(guān)鍵因素之一。因此，研究產(chǎn)酸劑在溶劑和固體膜層中的透光性尤為重要。此外，透過率也是評估成品光刻膠膜的重要指標(biāo)之一。

紫外可見分光光度計是評價樣品透過率和反射率等光學(xué)性能的常用設(shè)備。安捷倫 Cary4000/5000/6000i 系列光譜儀，均可測試低至175nm的波長范圍，且具有優(yōu)異的光度穩(wěn)定性和線性范圍，在 193 nm、248 nm 這兩個關(guān)鍵波長處具有優(yōu)異的性能表現(xiàn)。