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鋨等離子鍍膜儀可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化操作

閱讀:335        發(fā)布時(shí)間:2022-4-1
   鋨等離子鍍膜儀是一種基于直流輝光放電的等離子鍍膜設(shè)備??梢詫?shí)現(xiàn)自動(dòng)化操作,用于給SEM、FE-SEM樣品鍍導(dǎo)電薄膜或是給TEM樣品鍍支持膜。鍍膜厚度從幾納米到幾百納米,甚至是1納米以下的超薄膜。OPC采用了全新的四yang化鋨氣體PCVD方式獲得鋨膜。不同于傳統(tǒng)的濺射和蒸鍍,OPC很好地解決了薄膜的顆粒及熱損傷問題。
  
  等離子鍍膜設(shè)備是一種小型射頻(RF)等離子磁控濺射鍍膜儀器系統(tǒng)。該系統(tǒng)包括所有必需的配件,如300W(13.5mhz)射頻電源、2"磁控濺射頭、石英真空室、真空泵和溫度控制器。它是制作一些金屬和非金屬的又好又便宜的實(shí)驗(yàn)幫手。
  在鍍膜領(lǐng)域,鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的重要因素。因此,在評價(jià)薄膜樣品的性能時(shí),需要對薄膜樣品在不同厚度下的性能進(jìn)行測試。等離子鍍膜設(shè)備集成了真空鍍膜系統(tǒng)和手套箱系統(tǒng),可在高真空蒸發(fā)室中完成薄膜蒸發(fā),并將蒸發(fā)后的樣品在手套內(nèi)的高純惰性氣體氣氛中儲(chǔ)存、制備和檢測盒子。蒸發(fā)鍍膜與手套箱相結(jié)合,實(shí)現(xiàn)了蒸發(fā)、封裝、測試等過程的全封閉生產(chǎn),使整個(gè)薄膜生長和器件制備過程高度集成在一個(gè)環(huán)境氣氛可控的完整系統(tǒng)中,消除了不穩(wěn)定因素的影響。有機(jī)大面積電路制備過程中的大氣環(huán)境因素,保證了高性能、大面積有機(jī)光電器件和電路的制備。
  
  設(shè)備性能:
  1、自動(dòng)化控制,鍍膜時(shí)只需設(shè)定薄膜厚度,鍍膜過程自動(dòng)完成;
  2、鋨存儲(chǔ)器可拆卸:具有密封式結(jié)構(gòu),可冷凍保存;
  3、鍍膜時(shí)間短:只需幾秒鐘膜厚就可以達(dá)到納米級;
  4、裝有互鎖回路:一但OsO4氣體進(jìn)入腔體,真空不達(dá)標(biāo),腔體就無法打開;
  
  鋨等離子鍍膜儀的應(yīng)用:
  SEM、FE-SEM樣品鍍導(dǎo)電膜
  TEM(FIB)樣品鍍保護(hù)膜
  AFM樣品鍍保護(hù)膜
  STM樣品鍍保護(hù)膜以及導(dǎo)電膜
  TEM樣品鍍支持膜

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