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Baikowski CR-4N 高純氧化鋁研磨粉末：特性、應(yīng)用與選型指南
閱讀：498 發(fā)布時間：2025-4-301. 產(chǎn)品概述
Baikowski CR-4N 系列是一組高純度（99.99% Al?O?）氧化鋁（Al?O?）研磨粉末，采用先進的噴射磨解聚工藝（jet-mill deagglomerated powders）制備，確保顆粒高度分散，減少團聚現(xiàn)象。該系列產(chǎn)品憑借優(yōu)異的物理化學(xué)性能，廣泛應(yīng)用于高精度拋光、陶瓷涂層、制表業(yè)及特種陶瓷制造等領(lǐng)域。
2. 核心特性
2.1 高純度與晶體結(jié)構(gòu)
所有CR-4N系列產(chǎn)品均達到4N級（99.99%）純度，確保材料在高溫、腐蝕或精密加工環(huán)境下的穩(wěn)定性。根據(jù)結(jié)晶相的不同，可分為：
α相氧化鋁（CR1、CR6、CRA6、CR30F部分）：具有高硬度（莫氏硬度9）、優(yōu)異的熱穩(wěn)定性和化學(xué)惰性，適用于耐磨拋光、高溫陶瓷及精密機械加工。
γ相氧化鋁（CR125）：比表面積大（105 m2/g），化學(xué)活性高，適用于催化、吸附或多孔功能材料，但機械強度較低，不適合高負荷應(yīng)用。
混合相（CR30F，80%α相+20%其他相）：兼具一定硬度和高比表面積，適用于超細拋光或特殊功能性涂層。
2.2 粒徑與比表面積
粗顆粒（CR1，D50=1.0 μm）：適用于粗磨或高密度陶瓷成型，如照明陶瓷部件。
中細顆粒（CR6/CRA6，D50=0.4-0.5 μm）：平衡拋光效率與表面光潔度，是藍寶石、硅片及手表拋光的理想選擇。
超細顆粒（CR30F，D50=0.2 μm）：適用于超高精度拋光，但需優(yōu)化分散工藝以避免漿料黏度過高。
超高比表面（CR125，105 m2/g）：專為催化、吸附涂層設(shè)計，適用于化工或環(huán)保領(lǐng)域。
2.3 密度與工藝適配性
高密度（CR1/CR6/CRA6，松裝密度0.6 g/cm3）：適合高固含量漿料，涂層更致密，機械強度更高。
低密度（CR125，松裝密度0.1 g/cm3）：需調(diào)整噴涂或成型工藝，適用于輕質(zhì)多孔結(jié)構(gòu)。
3. 典型應(yīng)用領(lǐng)域
3.1 精密拋光
藍寶石/硅片拋光：推薦CR6或CRA6（0.4-0.5 μm，100%α相），兼顧效率與表面質(zhì)量；超精拋光可選用CR30F（0.2 μm）。
制表業(yè)（表殼、表帶）：CR6/CRA6用于鏡面拋光，CR1（1.0 μm）用于粗磨去痕。
3.2 陶瓷涂層與燒結(jié)
耐磨/耐高溫涂層：CR1或CR6（高α相含量）適用于機械部件防護。
功能性涂層（催化、吸附）：CR125（γ相）適合化工反應(yīng)器或環(huán)保過濾材料。
傳統(tǒng)照明陶瓷：CR1（1.0 μm）優(yōu)化燒結(jié)密度，提高部件機械強度。
3.3 其他應(yīng)用
電子陶瓷：超細粉末（CR30F）可用于MLCC（多層陶瓷電容器）介質(zhì)材料。
生物陶瓷：高純度α相（CR6）適用于牙科或骨科植入體表面處理。
4. 選型與使用建議
優(yōu)先考慮結(jié)晶相：高硬度需求選擇α相（CR1/CR6），高化學(xué)活性需求選擇γ相（CR125）。
粒徑匹配工藝：粗加工選CR1，精密拋光選CR6/CRA6，超精加工選CR30F。
注意分散性：超細粉末（如CR30F）需添加分散劑以防止團聚。
避免γ相高溫應(yīng)用：CR125在>1000℃時會轉(zhuǎn)變?yōu)棣料?，?dǎo)致比表面積下降。
5. 結(jié)論
Baikowski CR-4N系列通過精準調(diào)控結(jié)晶相、粒徑和密度，為不同工業(yè)場景提供定制化解決方案。無論是高精度拋光、耐磨涂層，還是催化功能材料，用戶均可根據(jù)具體需求選擇優(yōu)型號，并結(jié)合工藝優(yōu)化實現(xiàn)最佳性能。該系列產(chǎn)品代表了高純氧化鋁材料的技術(shù)，在制造領(lǐng)域具有不可替代的價值。