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半導(dǎo)體器件制造過程中液體成分濃度檢測設(shè)備ChemicAlyzer介紹
閱讀：635 發(fā)布時間：2024-11-22半導(dǎo)體器件制造過程中液體成分濃度檢測設(shè)備ChemicAlyzer介紹
ChemicAlyzer是一款利用光吸收原理并采用在線設(shè)計實現(xiàn)連續(xù)測量的液體成分濃度計。自 1990 年作為紅外液體成分濃度計的先驅(qū)開始業(yè)務(wù)以來，我們利用豐富的專業(yè)知識和技術(shù)，響應(yīng)不斷發(fā)展的半導(dǎo)體器件制造過程中的測量需求，提高質(zhì)量和化學(xué)濃度。管理。
我們將通過靈活應(yīng)對工藝和特殊化學(xué)溶液，并通過高精度化學(xué)濃度測量“滿足一步的測量需求"，繼續(xù)為制造工藝的優(yōu)化做出貢獻(xiàn)。
高質(zhì)量
我們?yōu)槊總€測量目標(biāo)選擇最佳波長，并為每個設(shè)備創(chuàng)建校準(zhǔn)曲線。
我們提供穩(wěn)定的產(chǎn)品，機(jī)器變化很小，并通過了檢驗測試。
高性能
ChemicAlyzer 是一款高性能濃度計，具有出色的響應(yīng)和分辨率。
可以控制濃度，而不會遺漏高度分解成分的哪怕最輕微的變化。
高耐用性
有助于降低長期運行成本。
十多年來，我們一直持續(xù)提供支持，并擁有客戶使用我們產(chǎn)品的記錄。
晶圓制造流程
半導(dǎo)體制造工藝
液晶面板制造流程
板材制造流程
晶體諧振器制造工藝
?抗蝕劑剝離液的濃度控制
?再生藥液的濃度管理
?后處理用化學(xué)溶液的濃度控制
?酸堿清洗液的濃度控制
?氧化膜/氮化膜蝕刻液的濃度控制
?其他特殊化學(xué)溶液的濃度控制
它還用于廣泛的行業(yè)，包括電池材料制造過程以及清酒和醋的發(fā)酵測量。
我們的高性能測量技術(shù)得到了高度評價，在日本、東亞和美國已銷售超過3,000臺！
基本規(guī)格
| 測量方法 | 近紅外透射光譜 |
|---|---|
| 最短測量時間 | 2秒 |
| 測量值輸出 | DC4-20mA |
| 輸入信號 | 晶體管電流驅(qū)動輸入（測量、校準(zhǔn)、預(yù)熱結(jié)束等） |
| 輸出信號 | 集電極開路輸出（READY、BUSY、設(shè)備錯誤、測量、成功、上下限報警等） |
| 接液部件材料 | 石英池規(guī)格：PFA、PTFE、石英（池）、全氟（O 型圈） 藍(lán)寶石池規(guī)格：PFA、PTFE、藍(lán)寶石（池）、Kalrez（O 型圈） |
| 最大工作壓力 | 0.2MPa |
| 配管直徑 | IN: Φ3 × Φ2 OUT: Φ4 × Φ3 (mm) 包含每根 1m 管 |
化學(xué)液體清單
| 主要用途 | 成分1 | 成分2 | 成分3 | 評論 | 通用名 | 推薦高精度型 | 需要特殊波長 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 半導(dǎo)體 | 氨 | 雙氧水 | APM、SC1 | ||||
| 高頻 | |||||||
| 高頻 | 稀 | 氫氟酸 | ○ | ○ | |||
| H 2 SO 4 | 雙氧水 | SPM | |||||
| 高頻 | 雙氧水 | 氟甲基丙烯酸甲酯 | |||||
| 高頻 | 雙氧水 | 稀 | 氟甲基丙烯酸甲酯 | ○ | ○ | ||
| 高頻 | 鹽酸 | ○ | ○ | ||||
| 高頻 | H2SiF6 | ○ | |||||
| 人機(jī)交互 | 雙氧水 | HPM、SC2 | ○ | ||||
| 氫氧化鉀 | 雙氧水 | ||||||
| 氫氧化鈉 | 雙氧水 | ||||||
| H 3 PO 4 | |||||||
| 高頻 | NH4F | ○ | |||||
| 高頻 | 硝酸3 | ○ | |||||
| 高頻 | 雙氧水 | CH3COOH | ◎ | ||||
| 液晶 | 四甲基氫氧化銨 | 開發(fā)商 | |||||
| H 3 PO 4 | 硝酸3 | CH3COOH | 蝕刻 | ◎ | |||
| H 2 SO 4 | 雙氧水 | 銅 | 蝕刻 | ◎ | ○ | ||
| 水 | 胺 | 溶劑 | 抗剝落 | ◎ | ○ | ||
| 其他的 | 異丙醇 | ||||||
| 水 | 有機(jī)溶劑中微量水分 | ○ | |||||
| CH3COOH | C2H5OH | 醋 | ○ | ||||
| C2H5OH | 葡萄糖 | 日本清酒 | ○ | ○ |
*由于采用光學(xué)方法，因此無法測量不透光的不透明化學(xué)溶液