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關(guān)于傅立葉紅外光譜儀在半導(dǎo)體應(yīng)用說明

閱讀:1131          發(fā)布時間:2018-9-29
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傅立葉紅外技術(shù)可以快速、靈敏、無損地分析硅材料中的碳、氧含量,因此它在硅材料質(zhì)量控制領(lǐng)域被廣泛接受和應(yīng)用。布魯克人在這個前沿領(lǐng)域擁有和積累了幾十年的經(jīng)驗,并結(jié)合布魯克VERTEX系列傅立葉紅外光譜儀推出了業(yè)內(nèi)專業(yè)和與時俱進的完整分析方案。

根據(jù)ASTM/SEMI MF1391標(biāo)準(zhǔn),建立了室溫 硅中代位碳原子含量分析方法。 根據(jù)ASTM/SEMI MF1188標(biāo)準(zhǔn),建立了室溫 硅中間隙氧含量分析方法。 可達低檢出限: < 400ppba 建議的樣品特征: 厚度0.5-2.5 毫米 (理想:約1.5 毫米) 雙面拋光 單晶或多晶型

 

更多信息請點擊:布魯克紅外光譜儀

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