粒度分析儀器就是針對(duì)生產(chǎn)現(xiàn)場(chǎng)的實(shí)際需要，發(fā)展起來的一種實(shí)時(shí)粒度分析手段，它具有實(shí)時(shí)性，連續(xù)性，抗電磁、高溫、粉塵、震動(dòng)、腐蝕性干擾能力，為控制系統(tǒng)提供準(zhǔn)確的控制信號(hào)，真正實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)自動(dòng)化、監(jiān)測(cè)科學(xué)化。

 

　　粒度分析儀器的使用過程中，對(duì)于使用者來說，如何選取儀器的遮光比對(duì)于提升儀器度是很有影響的，所謂的遮光比就是在使用納米激光粒度儀測(cè)試樣品時(shí)，配置的樣品懸浮液的濃度，遮光比的正確選擇是激光粒度儀在粒度測(cè)試過程中的重要的步驟，遮光比是否合適或者說被測(cè)樣品的濃度是否合適嚴(yán)重關(guān)系到粒度測(cè)量結(jié)果的準(zhǔn)確性和代表性。

 

　　粒度分析儀器的測(cè)量原理要求在測(cè)試過程中，樣品的濃度以樣品中顆粒之間相互不發(fā)生二次散射為原則，理論上就是要求懸浮液或者空氣中顆粒之間的距離為顆粒直徑的3倍，但是這個(gè)要求非常難以掌握，因此在實(shí)際的粒度測(cè)試中，通過調(diào)整遮光比的數(shù)值來盡量保證顆粒之間不發(fā)生二次散射。遮光比不宜過大（超過50%）或者過?。ǖ陀?%），遮光比過大時(shí)，顆粒的濃度過高，容易發(fā)生二次散射，測(cè)量結(jié)果誤差增大；遮光比過低，樣品中顆粒的濃度太低，顆粒數(shù)太少，測(cè)試結(jié)果的代表性很差，甚至可能導(dǎo)致測(cè)試結(jié)果是無效的，因此在測(cè)試過程中，對(duì)遮光比的選取要通過反復(fù)試驗(yàn)，以得到正確的測(cè)量結(jié)果。

 

　　一般來說，對(duì)于比較粗的樣品，遮光比可以選擇的比較高，如20~30%，正常情況可以為10~25%;對(duì)于超細(xì)的樣品，粒度分析儀器可以適當(dāng)降低樣品的遮光比，但一般不要超過40%，這些都是實(shí)驗(yàn)得到的經(jīng)驗(yàn)數(shù)值，但還需通過反復(fù)實(shí)驗(yàn)，找到對(duì)應(yīng)樣品測(cè)試時(shí)遮光比的數(shù)值。