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低壓等離子體提供了非常多的表面改性方法。對(duì)臟污組件進(jìn)行精細(xì)清洗、對(duì)塑料件進(jìn)行等離子活化、對(duì) PTFE、硅進(jìn)行蝕刻，以及對(duì)具有PTFE 類涂層的塑料件進(jìn)行涂覆，這些是其部分應(yīng)用用途。就此而言，低壓等離子體可應(yīng)用于各種不同的領(lǐng)域，在這些領(lǐng)域中對(duì)材料進(jìn)行鍵合或者有針對(duì)性地改變表面特性對(duì)其來說非常重要。

低壓等離子設(shè)備的應(yīng)用

材料清洗：等離子體技術(shù)可為所有類型的污染物、所有基材和所有后續(xù)處理提供解決方案。此外，還能分解由分子構(gòu)成的殘留污染物。

材料活化：表面具有良好的潤(rùn)濕性，是確保在涂漆、粘接、印刷或者鍵合時(shí)與結(jié)合配偶體粘附的前提條件。

材料蝕刻：等離子體技術(shù)可用于各向異性和各向同性蝕刻。通過化學(xué)蝕刻進(jìn)行各向同性蝕刻，通過物理蝕刻進(jìn)行各向異性蝕刻。

材料涂覆：使用低壓等離子體，可以改良具有不同涂層的工件。為此，會(huì)將氣態(tài)和液態(tài)原材料輸送到真空腔室中。

Diener同時(shí)還是低壓等離子設(shè)備、等離子體高頻發(fā)生器和常壓等離子體生產(chǎn)領(lǐng)域的國(guó)際市場(chǎng)，diener技術(shù)極其成熟，而且取得了巨大的成功，從而保證了持續(xù)性擴(kuò)張。

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