產(chǎn)品分類品牌分類
-
塞貝克系數(shù)電阻測(cè)試儀 先進(jìn)功能材料電測(cè)綜合測(cè)試系統(tǒng)- 絕緣電阻劣化(離子遷移)評(píng)估系統(tǒng) 儲(chǔ)能新材料電學(xué)綜合測(cè)試系統(tǒng) 半導(dǎo)體封裝材料真空探針臺(tái) 空間電荷測(cè)試系統(tǒng) 電容器溫度特性評(píng)估系統(tǒng) 高頻高壓絕緣電阻、介電 多通道極化裝置 鐵電分析儀 高壓功率放大器 絕緣電阻率測(cè)試儀 高低溫冷熱臺(tái)測(cè)試系統(tǒng) 50點(diǎn)耐壓測(cè)試儀 電壓擊穿測(cè)定儀 耐電弧試驗(yàn)儀 探針臺(tái) 漏電起痕試驗(yàn)儀 多通道介電與電阻測(cè)試系統(tǒng)
-
傳感器多功能綜合測(cè)試系統(tǒng) 先進(jìn)功能材料電測(cè)綜合測(cè)試系統(tǒng) 長(zhǎng)期耐腐蝕老化試驗(yàn)平臺(tái)- 高電場(chǎng)介電、損耗、漏電流測(cè)試系統(tǒng) 阻抗分析儀 鐵電綜合材料測(cè)試系統(tǒng) 鐵電分析儀 高壓功率放大器 D33壓電系數(shù)測(cè)試儀 高溫介電溫譜測(cè)試儀 熱釋電測(cè)試儀 TSDC熱刺激電流測(cè)試儀 高壓極化裝置 高低溫冷熱臺(tái) 簡(jiǎn)易探針臺(tái) 高溫四探針測(cè)試儀 多通道電流采集系統(tǒng) 高真空退火爐 電學(xué)綜合測(cè)試系統(tǒng) 高溫管式爐測(cè)試儀 漆包線擊穿耐壓試驗(yàn)儀 電化學(xué)遷移測(cè)試系統(tǒng) 水平垂直燃燒測(cè)定機(jī) 陶瓷材料閃燒試驗(yàn)裝置 導(dǎo)通電評(píng)估系統(tǒng) 差熱分析儀 醫(yī)用接地電阻
鐵電材料的電光效應(yīng)及其應(yīng)用
電子光是一交替變換的電磁波,其中電場(chǎng)與磁場(chǎng)方向相互垂直,光會(huì)在介質(zhì)晶體中誘導(dǎo)電極化而光本身也會(huì)受此晶體的影響。電子光的交替變化頻率是如此之高(~1015Hz),以致只有電子極化部分能跟上電場(chǎng)的變化,因而晶體的相對(duì)介電常數(shù)非常小,不超過(guò)10.高頻下的介電常數(shù)ε與折射率n存在下列關(guān)系
一般來(lái)說(shuō),折射率是對(duì)稱的二階張量,可以用折射光率體來(lái)表示
式中,n1、n2和n3是主折射率。
當(dāng)一外電場(chǎng)施加到晶體上時(shí),產(chǎn)生離子位移,并改變電子云的形狀,結(jié)果導(dǎo)致折射率發(fā)生變化,這種現(xiàn)象就稱為電光效應(yīng)。在外電場(chǎng)作用下,晶體光學(xué)性質(zhì)的改變可以用折射光率體三個(gè)軸的方向和長(zhǎng)度的變化來(lái)表示。在同一坐標(biāo)系中,光率體橢球方程變?yōu)?/span>
折射率的變化,它們的解析式一般是不知道的。但根據(jù)數(shù)學(xué)級(jí)的性質(zhì),它總可以用展開(kāi)成冪級(jí)數(shù)的形式表示,并且根據(jù)外電場(chǎng)對(duì)晶體光學(xué)性質(zhì)的附加作用相對(duì)微弱這一事實(shí);級(jí)數(shù) 可以只取前兩項(xiàng) ,即
式就是電光效應(yīng)的數(shù)學(xué)表達(dá)式。式中右邊第yi項(xiàng)是與外電場(chǎng)的一次方成正比關(guān)系 ,稱為一次電光效應(yīng) ,或??藸査剐?yīng) ??????稱為線性電光系數(shù) ,單位為 m /V ;第二項(xiàng)是與外電場(chǎng)的二次方成正比關(guān)系 ,稱為二次電光效應(yīng) ,或克爾效應(yīng) ????????稱為二次電光系數(shù)或克爾系數(shù)單位為??2/??2。 γ和 g 均可通過(guò)實(shí)驗(yàn)測(cè)定 。一般的電光晶體如KDP 晶體等 γ?g ,即線性電光效應(yīng)是主要的 。
需要指出 因?yàn)?各向異性晶體的折射率是二階張量 ,且可以證明折射率 ??????=??????,不受 E k 的 影響 ,故將兩個(gè)下標(biāo) ij 簡(jiǎn)化為一個(gè) l, l與 ij 的關(guān)系是
透明鐵電陶瓷的光學(xué)性質(zhì)對(duì)當(dāng)代許多新技術(shù)如激光技術(shù)技術(shù)如激光技術(shù)、計(jì)算機(jī)技術(shù)、、計(jì)算機(jī)技術(shù)、全息存貯與顯示以及光電子學(xué)等新學(xué)科的全息存貯與顯示以及光電子學(xué)等新學(xué)科的發(fā)展具有一定推動(dòng)作用,而發(fā)展具有一定推動(dòng)作用,而其電光效應(yīng)的應(yīng)用都是以電控雙折射和電控散射效應(yīng)的形式來(lái)實(shí)現(xiàn)的。其光學(xué)性質(zhì)與晶粒尺寸密切相關(guān)。在粗晶粒陶瓷(一般晶粒尺寸大于2~32~3μm)m)中,主要是電控光散射效應(yīng);在細(xì)晶陶瓷中主中,主要是電控光散射效應(yīng);在細(xì)晶陶瓷中主要是電控要是電控雙折射效應(yīng)。