徠卡Leica EM ACE200真空鍍膜儀是一款集噴金儀、噴碳儀、蒸鍍儀功能于一身的多功能設備，專為SEM和TEM分析提供高質(zhì)量、導電的金屬或碳涂層。該系統(tǒng)通過配置不同的模式（如離子濺射、碳絲蒸發(fā)等），并在全自動化系統(tǒng)中實現(xiàn)了結(jié)果的可重復性。其技術參數(shù)包括石英晶體測量、行星旋轉(zhuǎn)、輝光放電等選項，以及精確至0.1nm的膜厚控制功能。此外，該設備還具備方形樣品室、一體化觸摸控制界面等特點，便于用戶操作和維護。

為SEM和TEM分析生產(chǎn)同質(zhì)和導電的金屬或碳涂層，之前從未有過比與Leica EM ACE200涂層系統(tǒng)更方便的設備了。配置為濺射鍍膜機或碳絲蒸發(fā)鍍膜機后，可以在全自動化系統(tǒng)中獲得可重復的結(jié)果，實現(xiàn)了一臺EM ACE200具有噴金儀，噴碳儀，蒸鍍儀三種功能。如果您的分析需要這兩種方法，徠卡顯微系統(tǒng)在一臺儀器中提供可互換機頭的組合儀表。各個選項，如石英晶體測量、行星旋轉(zhuǎn)、輝光放電和可交換屏蔽共同構(gòu)成這臺低真空鍍膜機。

徠卡Leica EM ACE200真空鍍膜儀技術參數(shù)：

1、適用于常規(guī)SEM/TEM/DEX噴涂要求

2、可選離子濺射模式、碳絲蒸發(fā)模式、或雙模式、可選揮發(fā)放電功能

3、方向型離子濺射模式，可提高平面樣品鍍膜效果，脈沖式碳絲蒸發(fā)模式，實現(xiàn)對碳膜厚度的控制

4、可選配石英膜厚監(jiān)控器，可程序化控制膜厚，并反饋鍍膜儀，精度為0.1nm

5、標配有鍍膜金屬擋板，可用于干預濺射，確保鍍膜純度

6、專業(yè)設計方形樣品室，尺寸：140mm寬x145mm深x150mm高，樣品臺直徑80mm

7、工作距離：30-100mm

8、濺射電流：≤150mA

9、極限真空度：≤7x10-3mbar

10、一體化觸摸控制界面，操作簡單