化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>工藝測(cè)量和檢測(cè)設(shè)備>其它晶圓缺陷檢測(cè)設(shè)備>Luminous NA-8000 日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體灰化裝置NA系列
Luminous NA-8000 日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體灰化裝置NA系列
- 公司名稱 玉崎科學(xué)儀器（深圳）有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) Luminous NA-8000
- 產(chǎn)地 日本
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2024/11/25 14:16:10
- 訪問次數(shù) 318
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真空泵;離心機(jī),;監(jiān)測(cè)儀,真空系統(tǒng),除塵裝置,數(shù)字粉塵儀;粒子計(jì)數(shù)器,環(huán)境監(jiān)測(cè)設(shè)備,環(huán)境測(cè)量設(shè)備 環(huán)境檢測(cè)設(shè)備
日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體灰化裝置NA系列
日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體灰化裝置NA系列
灰化裝置LuminousNA系列
Luminous NA 系列是一款不受晶圓尺寸限制的灰化系統(tǒng)，可以處理從關(guān)鍵的下一代晶圓工藝到晶圓級(jí)安裝工藝的各種工藝。
特征
可以執(zhí)行關(guān)鍵的下一代晶圓工藝所需的1×10 16原子/cm 2或更高的無損傷離子注入剝離工藝和聚合物去除工藝。
腔室配置適合氟基氣體添加工藝，使其無顆粒。因此，可以構(gòu)建從普通PR到離子注入剝離、有機(jī)膜剝離（PI、DFR等）剝離、氧化膜蝕刻等廣泛的工藝。
采用簡單的設(shè)備配置，同時(shí)實(shí)現(xiàn)了“出色的可維護(hù)性和可靠性”和“低成本”。
可以實(shí)現(xiàn)靈活的腔室配置（μwave、RIE、μwave + RIE），并且可以選擇多種傳輸路線。
晶圓尺寸只需通過配方設(shè)置即可更改，因此更改晶圓尺寸非常容易。
目的
離子注入剝離工藝（1 x 10 16原子/cm 2或更多）和前端工藝中的聚合物去除
需要CF4添加工藝的晶圓工藝（電子元件/LED）
芯片尺寸封裝和BUMP工藝
CCD彩色濾光片制造工藝
規(guī)格
| 模型 | 兼容晶圓尺寸 |
| Luminous NA-8000 | 100毫米、125毫米、150毫米和200毫米 |
| Luminous NA-1300 | 200毫米和300毫米 |
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