光刻機(jī)，亦稱為掩膜對準(zhǔn)曝光機(jī)，是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)過程中至關(guān)重要的設(shè)備，主要負(fù)責(zé)將設(shè)計好的電路圖案精確地轉(zhuǎn)移到硅晶圓上。其在集成電路的生產(chǎn)中扮演著不可替代的角色，確保了集成電路的微小化、精確化和高效化。

光刻機(jī)的分類主要基于其曝光方式，大致可分為接觸式光刻機(jī)、接近式光刻機(jī)和直寫式光刻機(jī)。其中，直寫式光刻機(jī)根據(jù)是否使用掩膜版，又可進(jìn)一步劃分為有掩膜直寫光刻機(jī)和無掩膜直寫光刻機(jī)。

無掩膜光刻機(jī)，作為一種創(chuàng)新的曝光技術(shù)，其特點在于摒棄了傳統(tǒng)掩膜版的使用。這種光刻機(jī)通過直接在硅晶圓上進(jìn)行曝光，實現(xiàn)了圖案的直接轉(zhuǎn)移，大大提高了生產(chǎn)效率和靈活性。無掩膜光刻機(jī)的優(yōu)勢在于：

1. 無需掩膜版，節(jié)省了掩膜制作成本和時間；

2. 高度靈活，便于快速更換設(shè)計和產(chǎn)品；

3. 能夠滿足2D光刻需求，同時實現(xiàn)2.5D光刻，即灰度光刻，適用于更復(fù)雜的光刻工藝。

由于其優(yōu)勢，無掩膜光刻機(jī)在多個領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用。在科學(xué)研究領(lǐng)域，它為研究者提供了便捷的實驗平臺；在定制化生產(chǎn)方面，它能夠快速響應(yīng)市場需求，生產(chǎn)特定產(chǎn)品；在快速原型制造領(lǐng)域，無掩膜光刻機(jī)大大縮短了產(chǎn)品研發(fā)周期。此外，在電子器件、生物醫(yī)藥、光學(xué)元件、微機(jī)械等高精尖領(lǐng)域，無掩膜光刻機(jī)也發(fā)揮著重要作用，為我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展提供了有力支持。

高精度步進(jìn)光刻科研版無掩膜光刻機(jī)ACA Pro產(chǎn)品亮點：

特征尺寸0.4μm

6英寸光刻面積

高精度步進(jìn)光刻

無掩膜光刻機(jī)

高精度步進(jìn)光刻科研版無掩膜光刻機(jī)ACA Pro應(yīng)用案例