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Herent® Chimera® A 12英寸硬掩膜刻蝕設(shè)備
- 公司名稱 深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 魯汶
- 型號 Herent® Chimera® A
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時間 2025/6/5 21:19:45
- 訪問次數(shù) 464
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1. 產(chǎn)品概述：
Herent® Chimera® A 金屬硬掩膜刻蝕設(shè)備，為針對 12 英寸 IC 產(chǎn)業(yè)的后道銅互連中氮化鈦（TiN）金屬硬掩膜刻蝕（metal hardmask open） 這一重復(fù)道次高的工藝所開發(fā)的專用產(chǎn)品，以滿足 12 英寸產(chǎn)線的各種硬質(zhì)掩膜刻蝕需求。此外，Chimera® A 硬掩模刻蝕腔可作為 LMEC-300™ 設(shè)備的選配模塊，實現(xiàn)從金屬硬掩模刻蝕到器件功能層刻蝕的一體化工藝。
12英寸硬掩膜刻蝕設(shè)備
2. Herent® Chimera® A系統(tǒng)特性
Herent® Chimera® A 金屬硬掩膜刻蝕設(shè)備是面向 12 英寸集成電路制造的量產(chǎn)型設(shè)備
設(shè)備由電感耦合等離子體刻蝕腔（ICP etch chamber）及傳輸模塊（transfer module）構(gòu)成
適用于 55 納米及其它技術(shù)代的 TiN 等硬掩膜刻蝕工藝
為針對 12 英寸 IC 產(chǎn)業(yè)的后道銅互連中氮化鈦（TiN）金屬硬掩膜刻蝕（metal hardmask open） 這一重復(fù)道次高的工藝所開發(fā)的專用產(chǎn)品，以滿足 12 英寸產(chǎn)線的各種硬質(zhì)掩膜刻蝕需求。此外，Chimera® A 硬掩模刻蝕腔可作為 LMEC-300™ 設(shè)備的選配模塊，實現(xiàn)從金屬硬掩?？涛g到器件功能層刻蝕的一體化工藝。
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