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EVG610 納米壓印光刻系統(tǒng)

具體成交價以合同協(xié)議為準

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岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司(Dymek Company Ltd ,下面簡稱岱美)成立于1989年,是一間擁有多年經(jīng)驗的高科技設(shè)備分銷商,主要為數(shù)據(jù)存儲、半導(dǎo)體、光通訊、高校及研發(fā)中心提供各類測量設(shè)備、工序設(shè)備以及相應(yīng)的技術(shù)支持,并與一些重要的客戶建立了長期合作的關(guān)系。自1989年創(chuàng)立至今,岱美的產(chǎn)品以及各類服務(wù)、解決方案廣泛地運用于中國香港,中國大陸(上海、東莞、北京),中國臺灣,泰國,菲律賓,馬來西亞,越南及新加坡等地區(qū)。


岱美在中國大陸地區(qū)主要銷售或提供技術(shù)支持的產(chǎn)品:

晶圓鍵合機、納米壓印設(shè)備、紫外光刻機、涂膠顯影機、硅片清洗機、超薄晶圓處理設(shè)備、光學(xué)三維輪廓儀、硅穿孔TSV量測、非接觸式光學(xué)三坐標測量儀、薄膜厚度檢測儀、主動及被動式防震臺系統(tǒng)、應(yīng)力檢測儀、電容式位移傳感器、定心儀等。


岱美重要合作伙伴包括有:

Thetametrisis, EVG, FSM, Opto-Alignment, Herz, PLSINTEC, Film Sense, Reditech, Lazin, Delcom, Microsense, Shb, boffotto, RTEC, Kosaka, Nanotronics, MTInc, 4D, Daeil, Microphysics,

n&k Technology, First Nano, Schmitt, LESCO, Otsuka, STI, Kurashiki, Ryokosha, SURAGUS, Westbond...


如有需要,請聯(lián)系我們,了解我們?nèi)绾伍_始與您之間的合作,實現(xiàn)您的企業(yè)或者組織機構(gòu)長期發(fā)展的目標。




膜厚儀,輪廓儀,EVG鍵合機,EVG光刻機,HERZ隔震臺,Microsense電容式位移傳感器

該設(shè)備支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并可選擇背面對準。此外,該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對準和納米壓印光刻(NIL)。

EVG610提供快速的處理和重新安裝工具,以改變用戶需求,光刻和NIL之間的轉(zhuǎn)換時間僅為幾分鐘。其先進的多用戶概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到專家級別的所有需求,因此使其成為大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用程序的理想選擇。

對于壓印工藝,EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到直徑150毫米不等。納米技術(shù)應(yīng)用的配置除了可編程的高和低接觸力外,還可以包括印章的釋放機制。EV Group專有的卡盤設(shè)計可提供均勻的接觸力,以實現(xiàn)高產(chǎn)量的壓印,該卡盤設(shè)計既支持軟印章也支持硬印章。

納米壓印機技術(shù)數(shù)據(jù):
晶圓直徑 (基板尺寸)
標準光刻 碎片蕞大150毫米
柔軟的UV-NIL 蕞大150毫米的碎片
解析度 ≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)
支持流程 柔軟的UV-NIL
曝光源 汞光源或紫外線LED光源
自動分離功能 不支持
工作印章制作 外部
 
納米壓印機特征:
1) 頂部和底部對準能力
2) 高精度對準臺
3) 自動楔形誤差補償機制
4) 電動和配方控制的曝光間隙
5) 支持新的UV-LED技術(shù)
6) 蕞小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求
7) 分步流程指導(dǎo)
8) 遠程技術(shù)支持
9) 多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和配方,可分配的訪問權(quán)限,不同的用戶界面語言)
10) 敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換
11) 臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

納米壓印機主要應(yīng)用:
具有紫外線納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對準系統(tǒng),支持尺寸從碎片到蕞大150毫米。
附加功能:
1) 鍵對準
2) 紅外對中
3) 納米壓印光刻
4) 微接觸印刷
納米壓印工藝結(jié)果:

圖1  微鏡頭

圖2  納米壓印結(jié)果(100納米分辨率)


 



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