氧化特點(diǎn)：

1、 降低孔隙率，晶核的形成速度大于成長(zhǎng)速度，促使晶核細(xì)化。
2、 改善結(jié)合力，使鈍化膜擊穿，有利于基體與鍍層之間牢固的結(jié)合。
3、 改善覆蓋能力和分散能力，高的陰極負(fù)電位使普通電鍍中鈍化的部位也能沉積，減緩形態(tài)復(fù)雜零件的突出部位由于沉積離子過(guò)度消耗而帶來(lái)的“燒焦”“樹(shù)枝狀”沉積的缺陷 ，降低鍍層的內(nèi)應(yīng)力，改善晶格缺陷、雜質(zhì)、空洞、瘤子等，容易得到無(wú)裂紋的鍍層。
4．有利于獲得成份穩(wěn)定的合金鍍層。提高產(chǎn)品質(zhì)量
5、 改善陽(yáng)極的溶解。增強(qiáng)鍍液的分布力 
7、 改進(jìn)鍍層的機(jī)械物理性能，如提高密度降低表面電阻和體電阻，提高韌性、耐磨性、抗蝕性而且可以控制鍍層硬度。
8. 提高復(fù)雜工件電流分布
技術(shù)指標(biāo)比如（1000A50V）： 
1、輸入電壓： AC380V±15%  頻率50HZ
2、輸出電壓： 0-50V 可選
3、輸出電流： 0-1000A 可選 
 4、輸出脈沖頻率： 20KHZ
5、脈沖方波輸出，氧化膜層硬度高。
6、效率達(dá)到90%以上,省電。相對(duì)于可控硅電源而言，可省電 15-20%
7、體積小，重量輕。安裝和維修十分方便
8、穩(wěn)壓、穩(wěn)流轉(zhuǎn)換功能，穩(wěn)壓、穩(wěn)流可自行選擇
9、有近控與遠(yuǎn)控可供選擇。操作簡(jiǎn)便
10、工作時(shí)間控制功能，遠(yuǎn)程控制可配0~4段時(shí)間設(shè)計(jì)輸出。（由客戶選訂）
11、具過(guò)載、過(guò)流、過(guò)熱、缺相、欠壓、超壓、輸出短路等多重快速保護(hù)功能，自動(dòng)停機(jī)功能安全可靠。
12、電流、電壓及工作時(shí)間數(shù)字顯示，直觀明了
13、噴塑外殼，封閉的具防腐防潮功能的控制電路，在惡劣環(huán)境下安全可靠。
14、輸出為高穩(wěn)定的20KHZ高頻方波，亦可經(jīng)容抗濾波使之輸出為低紋波直流型。（由客戶選訂）
15、所有設(shè)備出廠前已經(jīng)過(guò)嚴(yán)格檢測(cè)和長(zhǎng)時(shí)間的老化試驗(yàn)，可晝夜?jié)M負(fù)荷，大電流連續(xù)不間斷運(yùn)行，真正的耐用、可靠!　
16、本機(jī)采用風(fēng)冷或水冷式，客戶自選。