ossila紫外臭氧清洗機(jī)應(yīng)用工藝：

•改善表面親水性

•表面清洗

•準(zhǔn)備薄膜沉積

•表面處理

•紫外固化

•表面滅菌消毒

•去除表面單分子膜

•表面氧化

•清洗AFM / STM探針

•清洗光學(xué)元件

ossila紫外臭氧清洗機(jī)可清洗的基材示例：

•石英

•硅

•氧化硅

•氮化硅

•金

•鎳

•鋁

•砷化鎵

•礬土

•玻璃

•不銹鋼

可去除的污染物示例：

•光刻膠

•樹脂

•人體皮膚油脂

•清洗溶劑的殘留物

•塑料/硅片表面油漬

•助焊劑

產(chǎn)品特點：

•成本低；

•120x120mm樣品臺；

•Z大處理樣品高度為14mm；

•抽屜式樣品臺，簡單方便；                                

•樣品臺自安全聯(lián)鎖，防止對人身傷害；    

•LCD屏顯示“已用時間”和“剩余時間”；

•60分鐘計時器；

•高強(qiáng)度紫外線燈源；

•可控溫的樣品臺；

•樣品清洗無需溶劑；

•超凈表面。

紫外臭氧清洗原理：

紫外臭氧清洗是一種光敏氧化過程，其中短波紫外線輻射被有機(jī)分子吸收以將其從表面分離  (通過與臭氧分子的化學(xué)反應(yīng))。這是一種非常好的技術(shù)， 用于清洗基材表面的樹脂，清潔 溶劑的殘留物，助焊劑，油以及表面消毒等，所有這些有機(jī)污染物都會影響樣品表面的性能。 與其他清潔技術(shù)(例如氧等離子體處理) 不同，紫外臭氧清洗不會導(dǎo)致樣品表面損傷。

紫外臭氧系統(tǒng)使用高強(qiáng)度紫外光源， 用 185nm 和 254nm 兩種波長的光照射目標(biāo)表面。系統(tǒng) 內(nèi)存在的分子氧(O2) 通過波長小于 200 nm 的紫外線輻射分離產(chǎn)生兩個氧自由基(O•)。這 些自由基中的每一個隨后可以與另外的分子氧反應(yīng)產(chǎn)生臭氧(O3)分子。未被殘余氧吸收 的 200nm 以上的 UV 輻射，會被基材表面上存在的有機(jī)化學(xué)污染物強(qiáng)烈吸收，一旦被吸收， 這會導(dǎo)致活性或有機(jī)自由基的產(chǎn)生。這些反應(yīng)性有機(jī)物質(zhì)在與不穩(wěn)定的臭氧分子接觸時，會 導(dǎo)致?lián)]發(fā)性物質(zhì)如 CO2 ，H2O ，N2  和短鏈有機(jī)化合物的形成。這些揮發(fā)性化合物可以很容 易地從表面上分解吸收， 保持基材的清潔。