濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式，較之較早點(diǎn)的蒸發(fā)鍍膜方式，其很多方面的優(yōu)勢相當(dāng)明顯。作為一項(xiàng)已經(jīng)發(fā)展的較為成熟的技術(shù)，磁控濺射已經(jīng)被應(yīng)用于許多領(lǐng)域。根據(jù)用戶的不同需求，可按照要求定做各種規(guī)格的金屬、合金、陶瓷等離子濺射用靶材。

常用靶材有：金靶Au、鉑靶Pt、鈦靶Ti、鋅靶Zn、鉻靶Cr、錫靶Sn、鋁靶Al、鐵Fe、硅靶Si、銅靶Cu等。

可根據(jù)客戶需求定做配套靶托，靶環(huán)。