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超1億元!東南大學(xué)近期儀器采購(gòu)意向
2025年01月10日 14:11:29 來(lái)源:化工儀器網(wǎng) 點(diǎn)擊量:3711

近期,東南大學(xué)連續(xù)發(fā)布多項(xiàng)儀器設(shè)備采購(gòu)意向,預(yù)算金額達(dá)1.287億元。

  近期,東南大學(xué)連續(xù)發(fā)布多項(xiàng)儀器設(shè)備采購(gòu)意向,預(yù)算金額達(dá)1.287億元。涉及儀器設(shè)備包括光學(xué)顯微鏡、原子層沉積鍍膜機(jī)、通風(fēng)櫥、掩膜光刻機(jī)、原子力顯微鏡等。預(yù)計(jì)采購(gòu)時(shí)間2025年1月和2月。
 
  采購(gòu)意向只是政府采購(gòu)的初步安排,具體采購(gòu)情況以東南大學(xué)發(fā)布的采購(gòu)公告和采購(gòu)文件為準(zhǔn),有意向的企業(yè)可持續(xù)關(guān)注該校發(fā)布的招標(biāo)信息。
 
  東南大學(xué)近期儀器采購(gòu)意向匯總

采購(gòu)項(xiàng)目

采購(gòu)需求概況

預(yù)算金額
(萬(wàn)元)

預(yù)計(jì)
采購(gòu)日期

光學(xué)顯微鏡(3臺(tái))

光學(xué)顯微鏡(3臺(tái))

120

2025年2月

原子層沉積鍍膜機(jī)

原子層沉積鍍膜機(jī)

550

2025年2月

掩膜光刻機(jī)

掩膜光刻機(jī)

450

2025年2月

原子層刻蝕機(jī)

原子層刻蝕機(jī)

580

2025年2月

磁控濺射沉積鍍膜機(jī)

磁控濺射沉積鍍膜機(jī)

450

2025年2月

原子力顯微鏡

原子力顯微鏡

350

2025年2月

等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積鍍膜機(jī)

等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積鍍膜機(jī)

380

2025年2月

快速退火系統(tǒng)

快速退火系統(tǒng)

180

2025年2月

HF氣體刻蝕機(jī)

HF氣體刻蝕機(jī)

550

2025年2月

高溫高壓光學(xué)浮區(qū)爐

高溫高壓光學(xué)浮區(qū)爐1套

1000

2025年1月

空間角分辨拓?fù)鋯喂庾訙y(cè)試系統(tǒng)

空間角分辨拓?fù)鋯喂庾訙y(cè)試系統(tǒng)1套

800

2025年2月

量子自旋多層膜磁控濺射真空互聯(lián)系統(tǒng)

量子自旋多層膜磁控濺射真空互聯(lián)系統(tǒng)1套

500

2025年2月

60T非破壞脈沖磁場(chǎng)綜合物性測(cè)量系統(tǒng)

61T非破壞脈沖磁場(chǎng)綜合物性測(cè)量系統(tǒng)1套

700

2025年2月

片上熱流場(chǎng)設(shè)計(jì)與粒子輸運(yùn)成像系統(tǒng)

片上熱流場(chǎng)設(shè)計(jì)與粒子輸運(yùn)成像系統(tǒng)1套

600

2025年2月

掃描電子顯微鏡(配有電子束曝光 模塊)

掃描電子顯微鏡(配有電子束曝光 模塊)

680

2025年2月

特殊氣體系統(tǒng)

特殊氣體系統(tǒng)

650

2025年2月

電子束蒸發(fā)沉積鍍膜機(jī)

電子束蒸發(fā)沉積鍍膜機(jī)

550

2025年2月

光刻輔助系統(tǒng)

包含通風(fēng)櫥,勻膠機(jī),加熱臺(tái),烘箱等光刻輔助設(shè)備

250

2025年2月

反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

350

2025年2月

封裝配套系統(tǒng)

封裝配套系統(tǒng)

200

2025年2月

熱蒸發(fā)沉積鍍膜機(jī)

熱蒸發(fā)沉積鍍膜機(jī)

280

2025年2月

無(wú)掩膜光刻機(jī)

無(wú)掩膜光刻機(jī)

700

2025年2月

環(huán)境模擬實(shí)驗(yàn)裝置艙體及配套設(shè)施

環(huán)境模擬實(shí)驗(yàn)裝置艙體及配套設(shè)施

2000

2025年1月

 
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